鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢
1,、樣品臺旋轉(zhuǎn),,多樣品同時(shí)鍍膜時(shí),鍍膜厚度比較均勻,。
2,、預(yù)濺射擋板功能,剛開始鍍膜的時(shí)候腔室里會有些雜質(zhì),,擋板可以保護(hù)樣品,,提高薄膜質(zhì)量
3、帶有水冷系統(tǒng),,可以長時(shí)間濺射鍍膜,,厚度可達(dá)1微米以上。
4,、直流磁控濺射,,提高附著力,濺射速率快,,比離子濺射快上一個(gè)量級,。針對某些金屬最快能達(dá)到1-2納米每秒,
5,、不但可以電鏡制樣,,還可以制作金屬電極。
6,、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測,,監(jiān)測薄膜厚度。
濺射儀使用需注
1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件 可以鍍
2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色
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