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　　一,、納米壓印技術(shù)是一種新型的微納加工技術(shù),。該技術(shù)通過(guò)機(jī)械轉(zhuǎn)移的手段，達(dá)到了超高的分辨率,，有望在未來(lái)取代傳統(tǒng)光刻技術(shù),，成為微電子、材料領(lǐng)域的重要加工手段,。
 

　　二,、納米壓印技術(shù)，是通過(guò)光刻膠輔助,，將模板上的微納結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到待加工材料上的技術(shù),。報(bào)道的加工精度已經(jīng)達(dá)到2納米,，超過(guò)了傳統(tǒng)光刻技術(shù)達(dá)到的分辨率。這項(xiàng)技術(shù)最初由美國(guó)普林斯頓大學(xué)的Stephen.Y.Chou(周郁)教授在20世紀(jì)90年代中期發(fā)明,。
 

　　三,、作用過(guò)程：
 

　　第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段,，在硅或其他襯底上加工出所需要的結(jié)構(gòu)作為模板,。由于電子的衍射極限遠(yuǎn)小于光子，因此可以達(dá)到遠(yuǎn)高于光刻的分辨率,。
 

　　第二步是圖樣的轉(zhuǎn)移,。在待加工的材料表面涂上光刻膠，然后將模板壓在其表面,，采用加壓的方式使圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,。注意光刻膠不能被全部去除，防止模板與材料直接接觸,，損壞模板,。
 

　　第三步是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化,，移開(kāi)模板后,，用刻蝕液將上一步未去除的光刻膠刻蝕掉，露出待加工材料表面,，然后使用化學(xué)刻蝕的方法進(jìn)行加工,，完成后去除全部光刻膠，最終得到高精度加工的材料,。
 

　　四,、而模板的選擇也更加多樣化。原來(lái)的剛性模板雖然能獲得較高的加工精度,，但僅能應(yīng)用于平面加工,。研究者們提出了使用彈性模量較高的PDMS作為模板材料，開(kāi)發(fā)了軟壓印技術(shù),。這種柔性材料制成的模板能夠貼合不同形貌的表面,，使得加工不再局限于平面，對(duì)顆粒,、褶皺等影響加工質(zhì)量的因素也有了更好的容忍度,。