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無掩膜光刻機-器件快速原型制作的理想工具
傳隨著電子通信行業(yè)的飛速發(fā)展,集成電路產(chǎn)業(yè)的需求呈現(xiàn)出爆炸式增長的趨勢,光刻技術已成為如今集成電路制造領域的核心技術。
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供,，但是在研發(fā)環(huán)境中,，掩膜板的設計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻系統(tǒng)通過以軟件設計電子掩膜板的方法,，克服了這一問題,。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案,。不僅是應用于生物醫(yī)學、微光學,、MEMS,、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。
無掩膜光刻是從傳統(tǒng)光學光刻技術衍生出的一種新技術，因為其曝光成像的方式與傳統(tǒng)投影光刻基本相似,，區(qū)別在于使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩膜,，其主要原理是通過計算機將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中，并根據(jù)圖像中的黑白像素的分布來改變DMD芯片微鏡的轉角,，并通過準直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面,，并通過控制樣品臺的移動實現(xiàn)大面積的微結構制備。
無掩膜光刻機應用：
1,、薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成,。
2、從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性,。
3,、研發(fā)應用的圖案形成。