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納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe>>技術(shù)文章>>Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用

閱讀:1711        發(fā)布時(shí)間:2022/4/8
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  德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng),,該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),,可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世代表著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域,。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。下面講講在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用:
 
  多級衍射光學(xué)元件
 
  雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),,并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級,。
 
  出色形狀精度的DOE納米結(jié)構(gòu)
 
  由于需要多次光刻,刻蝕和對準(zhǔn)工藝,,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,可以直接作為原型使用,,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。
 
  Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,,即一步打印多級衍射光學(xué)元件,并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹?/div>

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