該臺式納米顆粒沉積系統(tǒng),，專為正在研究納米顆粒性質(zhì)和應(yīng)用的科學(xué)家或技術(shù)人員而設(shè)計,。 該儀器可產(chǎn)生非團聚的超純納米顆粒涂層,。
該系統(tǒng)的設(shè)計使用簡單，通過清晰的樣品引入門和簡單的觸摸屏即可輕松加載樣品,，從而簡化系統(tǒng)操作,。

緊湊型臺式設(shè)計和簡單的觸摸屏操作使該系統(tǒng)非常適合任何研究納米顆粒應(yīng)用的實驗室。
真空沉積工藝可生產(chǎn)出無烴或其他污染物的超純納米顆粒,，這通常困擾化學(xué)技術(shù),。 納米顆粒涂層直接沉積在您的基材上，經(jīng)過30分鐘的典型循環(huán)時間后即可進行分析,； 無需進一步的干燥或純化步驟,。

該系統(tǒng)可在真空中生成超純和單分散的納米顆粒，然后將其直接沉積到目標(biāo)基質(zhì)上,。 NL50避免了使用溶液和粉末基納米顆粒時面臨的許多問題,。
該系統(tǒng)可以在幾分鐘內(nèi)將納米顆粒沉積到任何固體基材上。常用材料的簡單配方使研究人員能夠?qū)⒙懵兜募{米粒子（例如Ag或Au）沉積到其基底上,，
然后準(zhǔn)備用所需的蛋白質(zhì)或抗體直接進行功能化,。 該系統(tǒng)利用一種稱為終止氣體聚集的技術(shù)在真空中生成納米顆粒。

為什么選擇該NL50納米顆粒沉積系統(tǒng)
通過克合成的化學(xué)合成納米顆粒已經(jīng)問世,，那么為什么要投資購買沉積真空相納米顆粒的設(shè)備呢,？該系統(tǒng)中產(chǎn)生的納米粒子超純且不含表面活性劑或配體，并且在沉積后即可立即進行功能化,，從而無需冗長而復(fù)雜的多步化學(xué)純化工藝,。納米顆粒也是單分散的，因此避免了與結(jié)塊有關(guān)的問題。實時控制沉積密度,，可確保從單分散顆粒到3D多孔涂層的各種應(yīng)用中可重復(fù)的結(jié)果,。使用這種技術(shù)，納米材料的切換也非?？旖?。與化學(xué)合成開發(fā)需要花費數(shù)月的時間不同，目標(biāo)材料可以在數(shù)分鐘內(nèi)更換,，以沉積各種常見的金屬或合金,。直接沉積到基材上意味著浪費少，因為僅需按需制備納米顆粒即可,。

可在客戶的樣品上沉積一系列純凈的納米顆粒和合金納米顆粒,。
沉積過程是在真空中進行的，以確?？煽氐臒o污染過程,。
我們提供對納米顆粒尺寸和面積覆蓋的出色控制。
可以優(yōu)化納米顆粒薄膜的孔隙率,，以滿足客戶的需求,。
我們還可以提供某些材料的一些標(biāo)準(zhǔn)演示樣本。
由該納米顆粒沉積系統(tǒng)產(chǎn)生的納米粒子是通過磁控管濺射法生成的,，使用的是少量的氬等離子體,，以生成所需材料的原子。
然后,，這些原子在非常短的時間內(nèi)（<1μs）被熱化并形成納米顆粒,。
納米顆粒通過一個小孔射入沉積室并射到樣品上
用戶可以通過調(diào)節(jié)等離子體功率和氬氣流量在2-20nm左右的范圍內(nèi)改變尺寸（取決于材料）。

超純納米顆粒
納米顆粒沉積系統(tǒng)利用磁控濺射在真空中產(chǎn)生一束超純納米顆粒,。 納米粒子的特征是：
●超純無烴
●不結(jié)塊
results一致且可重復(fù)的結(jié)果
●選擇材料包括Au,，Ag，Cu,，Pt,，Ir，Ni,，Ti和Zr
●生成復(fù)合納米顆粒,，例如氮化物和氧化物

沉積控制

使用石英晶體監(jiān)控器（QCM）進行實時沉積控制，可以對從亞單層覆蓋到多孔3D結(jié)構(gòu)的表面載荷進行且可重復(fù)的控制,。 沉積時間通常為幾分鐘,。 沉積速率范圍為10-50ng / cm²s

靈活的基板加載
NL50專為各種基材類型而設(shè)計，直徑大可達(dá)50mm,。 由于在沉積室內(nèi)不會產(chǎn)生熱量,，因此即使是易碎的基材也適用,。 基材包括但不限于
●顯微鏡載玻片
●培養(yǎng)皿
●微孔板
●電極
●膜
●塑料
易于使用
直觀的用戶界面易于使用，并允許抽空和沉積順序的*自動化,。
●全自動抽氣和排氣
common預(yù)加載的常見材料優(yōu)化沉積設(shè)置
●用戶可以控制沉積條件以改變納米粒子的大小和沉積速率
using使用沉積重量或沉積時間選擇沉積控制。
表面清潔和預(yù)處理
該系統(tǒng)提供對導(dǎo)電基材的可選原位等離子體清潔,。
在真空中,，等離子體清潔從基底上除去吸附的分子，以幫助沉積的納米顆粒粘附并在沉積之前使基底表面功能化,。
對于易碎的基材,，只需在配方中取消選擇等離子體清潔步驟。