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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 加熱方式 | 硅碳棒 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 1萬-2萬 | 控溫精度 | 1℃ |
| 內(nèi)部尺寸 | 300x200x200mm | 升溫速度（達(dá)到最高溫） | 40/min |
| 儀器種類 | 箱式爐 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合 |
| 最大功率 | 4000kW | 最高溫度 | 1300℃ |
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡介：
真空氣氛爐又名無氧退火爐,、真空氣氛燒結(jié)爐等 物體在通入定氣體的爐膛內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)的方法,。 不同的材料選擇適宜的氣氛燒結(jié)，有助于燒結(jié)過程,，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品,。真空氣氛爐常用的有真空,、氫、氧,、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛,。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結(jié)，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結(jié),，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結(jié),。 有時為保護(hù)燒結(jié)調(diào)協(xié)也須在保護(hù)氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫,，鎢絲爐宜在真空條件下工作,。
氣氛爐用途：
真空氣氛爐滿足于不同工藝實驗而殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié),、玻璃的精密退火與微晶化,、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備,、粉末冶金,、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理,，是科研單位,、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設(shè)備。
真空氣氛燒結(jié)爐原理：
真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù),，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個大氣壓的氣氛環(huán)境,，包括低真空、中等真空,、高真空和超高真空,，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的,，真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝,，但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比,，真空熱處理的同時,，可實現(xiàn)無氧化、無脫碳,、無滲碳,，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用,，從而達(dá)到表面光亮凈化的果,。
真空氣氛爐結(jié)構(gòu)：
一 、電氣部分：電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結(jié)構(gòu),，整個電氣元件安裝在爐體底部的側(cè),，結(jié)構(gòu)緊湊、占用空間小,。溫控安裝在爐體側(cè)面板上,，觀察直觀，調(diào)節(jié)方便,，溫控儀具有PID調(diào)節(jié)功能,，可自動跟蹤設(shè)定PID值，可任意設(shè)定測量分度密碼,，同時具備補償功能,，可使?fàn)t膛溫度與顯示值致。
二,、爐體部分：爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑,，爐膛內(nèi)上下用碳化硅棚板，爐內(nèi)溫度是加熱元件在加熱過程中經(jīng)過碳化硅棚板傳導(dǎo)（暗火加熱）,，溫度更均勻,。爐殼密封。為提高該氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門口設(shè)有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度,。進(jìn)氣設(shè)爐膛底部,，經(jīng)加熱腔預(yù)熱后分多處進(jìn)入爐內(nèi),，排氣經(jīng)爐頂后部排出。爐內(nèi)氣氛均勻,，減小爐內(nèi)溫差,。也就是說，不論是電氣部分還是爐體部分,，它們的結(jié)構(gòu)性能都是互相力的,，具有統(tǒng)性，也是實現(xiàn)箱式氣氛爐功能的基本,！
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