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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 加熱方式 | 硅碳棒 |
|---|---|---|---|
| 價(jià)格區(qū)間 | 1萬-2萬 | 控溫精度 | 1℃ |
| 內(nèi)部尺寸 | 300x200x200mm | 升溫速度（達(dá)到最高溫） | 40/min |
| 儀器種類 | 箱式爐 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合 |
| 最大功率 | 4000kW | 最高溫度 | 1400℃ |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
真空高溫爐通用功能
1、升溫速度快：20min內(nèi)就可由室溫程序升溫至1000℃ ,；
2,、氣氛環(huán)境：真空環(huán)境，真空度可達(dá)－0.0099Mpa,；
3,、水冷卻系統(tǒng)：根據(jù)物料特性，溫度可達(dá)到1400℃,，長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作溫度100~1300℃,；
4、單路氣氛：設(shè)置氣體進(jìn)出口及爐膛內(nèi)氣體排出口；
5,、進(jìn)口紅外測(cè)溫儀,，可以不接觸測(cè)試物料溫度，避免微波場(chǎng)干擾,；
6,、門體多重連鎖結(jié)構(gòu)，開門斷電,，保護(hù)操作人員,，微波泄漏防護(hù)符合國(guó)標(biāo)；
7,、采用PLC自動(dòng)控制,，溫度功率均智能可控，觸摸屏操作,；
8,、微波功率可調(diào),，連續(xù)可調(diào),。
真空高溫爐重要技術(shù)參數(shù)
一、型號(hào)：AFD1100-50,；
二,、設(shè)備尺寸
a、工作區(qū)尺寸:D500(mm) * W400(mm) * H400(mm),；
三,、機(jī)器結(jié)構(gòu)
a、單門落地式,，控制部分位于機(jī)臺(tái)下方,；
b、爐門為從左至右打開,。
四,、主要技術(shù)參數(shù)
a、溫度范圍：RT～1300℃,；
b,、溫度波動(dòng)度：±1.0℃；
c,、溫度均勻度：≤±5.0℃,；
d、溫度：1400 ℃,；
e,、額定溫度：1300℃；
f、加熱元件：硅碳棒
g,、熱電偶型號(hào)：B型
h,、四周表面溫度：≤ 溫升50℃；
i,、升溫速率：≤ 20 ℃/ Min,；
j、升溫速率：10 ℃/ Min,；
K,、降溫速率：≤ 15 ℃/ Min（爐膛溫度≥1000℃）；
l,、降溫速率：≤ 10 ℃/ Min（爐膛溫度≤1000℃）,；
m、加熱元件放在爐膛兩邊采用氣體對(duì)流和熱輻射加熱,；
n,、爐內(nèi)真空度20Kpa，爐內(nèi)正壓：max0.1Mpa,；
o,、爐膛內(nèi)可通氫氣、氮?dú)?，氧氣（少量）,、氬氣等氣體。
五,、內(nèi)外材質(zhì)
a,、爐膛材料：1560型日本進(jìn)口氧化鋁多晶體纖維（阿爾塞）；
b,、外層SPCC鋼板防銹處理+粉體烤漆處理,；
六、密封裝置
a,、爐門與爐體采用硅橡膠密封,，配有循環(huán)水冷卻裝置；
b,、爐體采用雙層爐殼,，外城爐殼采用硅橡膠密封；
七,、溫控系統(tǒng),；
a、溫度控制為PID微電腦自動(dòng)演算,PV/SV同時(shí)顯示按鍵設(shè)定,；
b,、溫度控制方式為P.I.D+S.S.R可控硅,；
c、控制方式：40段程序控溫,；
八,、保溫及加熱方式
a、耐高溫纖維及空氣隔熱,；
b,、加熱方式為熱輻射及自然對(duì)流；
九,、安全保護(hù)系統(tǒng)
a,、保險(xiǎn)絲；
b,、過電流保護(hù)裝置,、過溫保護(hù)裝置；
十,、配件清單
a,、流量計(jì)：1只；
b,、高溫手套：一副,；
c、氧化鋁墊磚：1 塊,；
十,、電源： 三相380V
功率：12KW
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