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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
常州廢氣處理廠家
一個完整的廢氣凈化系統(tǒng)一般由五部分組成,，它們是捕集污染氣體的廢氣收集裝置(集氣罩)，連接系統(tǒng)各組成部分的管道,，使污染氣體得以凈化的凈化裝置,，為氣體流動提供動力的通風(fēng)機，充分利用大氣擴散稀釋能力減輕污染的煙囪,。
集氣罩
污染物的捕集通常是指對設(shè)備敞口部位散發(fā)的含污染物的氣流的控制及收集,。通過對污染物的有效捕集，以保證周圍良好的生產(chǎn),、生活環(huán)境,，盡可能使輸送及凈化的氣體量比較少，效率比較高,。集氣罩是用來捕集污染物的裝置,，其性能對局部排氣凈化系統(tǒng)的技術(shù)經(jīng)濟指標(biāo)有直接影響。
管道
管道是廢氣污染控制系統(tǒng)中*的組成部分。管道系統(tǒng)在凈化系統(tǒng)中是用來輸送氣流的,，通過管道使系統(tǒng)的設(shè)備和部件連成一個整體,。合理地設(shè)計、 施工和使用管道系統(tǒng),，不僅能充分發(fā)揮控制裝置的效能,，而且直接關(guān)系到設(shè)計和運轉(zhuǎn)的經(jīng)濟合理性。
凈化設(shè)備
氣體凈化設(shè)備是凈化系統(tǒng)的核心部分,。當(dāng)排氣中污染物含量超過排放標(biāo)準時,，必須*行凈化處理，達到排放標(biāo)準后才能排入大氣,。
通風(fēng)機
通風(fēng)機是凈化系統(tǒng)中氣體流動的動力裝置,。通風(fēng)機一般都放在凈化設(shè)備后面，防止通風(fēng)機的磨損和腐蝕,。
煙囪
煙囪是凈化系統(tǒng)的排氣裝置,。由于凈化后的氣體中仍然還含有一定濃度的污染物，這些污染物經(jīng)煙囪排放后在大氣中擴散,、稀釋,，終沉降到地面。為了保證地面污染物濃度不超過環(huán)境空氣質(zhì)從標(biāo)準,，煙囪必須具有一定的高度,。 此外，為了保證廢氣凈化系統(tǒng)能夠正常運行,，根據(jù)凈化處理對象的不同,，在凈化系統(tǒng)中往往增設(shè)必要的輔助設(shè)備。例如：處理高溫氣體時的冷卻裝置,、余熱利用裝置,，滿足鋼材熱脹冷縮變化的管道補償器，輸送易燃易爆氣體時的防爆裝置,，以及用來調(diào)節(jié)系統(tǒng)風(fēng)量和壓力平衡的各種閥門,，用于測量系統(tǒng)內(nèi)各種參數(shù)的測量儀器、控制儀器和測孔,，用于支撐和固定管道,、設(shè)備的支架，用于降低風(fēng)機噪 聲的消音裝置等,。
常州廢氣處理廠家
噴淋塔設(shè)備
吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對 VOCs進行吸收,，再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進行分離。
含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內(nèi),，在上升過程中與來自塔頂?shù)奈談┠媪鹘佑|,，凈化后的氣體由塔頂排出,。吸收了 VOCs的吸收劑通過熱交換器后，進入汽提塔頂部,，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸,。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器,、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高,、溫度較低的氣體凈化,，其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。
活性炭吸附設(shè)備
在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時,，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上,，此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時,，吸附的對象是氣態(tài)污染物,，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì),，多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑,。
固體表面吸附了吸附質(zhì)后，一部被吸附的吸附質(zhì)可從 吸附劑表面脫離,，此現(xiàn)附。而當(dāng)吸附進行一段時間后,，由于表面吸附質(zhì)的濃集,，使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求，此時需要采用一定的措施使 吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附,，以協(xié)的吸附能力,，這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中,，正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程,，達到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。
有機廢氣的燃燒及催化凈化設(shè)備
燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中,。但當(dāng)處理含 氯和含 硫的有機化合物時,，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理,。
工業(yè)有機廢氣的低溫等離子體的治理設(shè)備
等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體,，其英文名稱是plasma,，它是由美國科學(xué) muir，于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現(xiàn)象時命名的,。等離子體由大量的子,、中性原子、激發(fā)態(tài)原子,、光子和自由基等組成,，但電子和正離子的電荷數(shù)必須體表現(xiàn)出電中性，這就是“等離子體”的含義,。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體,、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài),。根據(jù)狀態(tài),、溫度和離子密度，等離子體通?？梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）,。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài),，它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面,。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同,。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K,。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體,。
截至2013年，對 低溫等離子體的作用機理研究認為是粒子非彈性碰撞的結(jié)果,。低溫等離富含電子,、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子,，其中高能電子與氣體分子（原子）發(fā)生撞,，將能量轉(zhuǎn)換成基態(tài)分子（原子）的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā),、 離解和電離等一系列過秸處于活化狀態(tài),。一方面打開了氣體分子鍵，生成一些單分子和固體微粒,；另一力生． OH,、 H2O2．等自由基和氧化性*的 O3，在這一過程中高能電子起決定性作用,，離子的熱運動只有副作用,。常壓下,，氣體放電產(chǎn)生的高度非平衡等離子體中電子溫層氏度）遠高于氣體溫度（室溫100℃左右）。在非平衡等離子體中可能發(fā)生各種類型的化學(xué)反應(yīng),，主要決定于電子的平均能量,、電子密度、氣體溫度,、有害氣體分子濃度和≥氣體成分,。這為一些需要很大活化能的反應(yīng)如大氣中難降解污染物的去除提供了另外也可以對低濃度、高流速,、大風(fēng)量的含揮發(fā)性有機污染物和含硫類污染物等進行處理,。
常見的產(chǎn)生等離子體的方法是氣體放電，所謂氣體放電是指通過某種機制使一電子從氣體原子或分子中電離出來,，形成的氣體媒質(zhì)稱為電離氣體,，如果電離氣由外電場產(chǎn)生并形成傳導(dǎo)電流，這種現(xiàn)象稱為氣體放電,。根據(jù)放電產(chǎn)生的機理,、氣體的壓j源性質(zhì)以及電極的幾何形狀、氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式：①輝光放電,；③ 介質(zhì)阻擋放電,；④射頻放電；⑤ 微波放電,。無論哪一種形式產(chǎn)生的等離子體,，都需要高壓放電。容易打火產(chǎn)生危險,。由于對諸如氣態(tài)污染物的治理,，一般要求在常壓下進行。
5,、光催化和生物凈化設(shè)備
光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水,、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產(chǎn)物,，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化,、氧化方法亦需要幾百度的高溫,。
從理論上講，只要 半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能,，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,，如 Ti0,。,、Zn0、ZnS,、CdS及PbS等,。這些催化劑各自對特定反應(yīng)有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用,，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小,，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能,，但它容易發(fā)生光腐蝕,，使用壽命有限。相對而言,，Ti02的綜合性能較好,，是廣泛使用和研究的單一化合物 光催化劑