低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機理
低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機理:
等離子體去除惡臭是通過兩個途徑實現(xiàn)的:一個是在高能電子的瞬間是高能量作用下,打開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵,使其直接分解成單質(zhì)原子或無害分子,;另一個是在大量高能電子,、離子,、激發(fā)態(tài)粒子和氧自由基,、氫氧自由基(自由基因帶有不成對電子而具有很強的活性)等作用下的氧化分解成無害產(chǎn)物,。主要有下面幾個過程:
1,、在高能電子作用下,,強氧化性自由基O、OH,、OH2的產(chǎn)生,;
2、有機物分子受到高能電子碰撞被激發(fā),,及原子鍵斷裂形成小碎片基團(tuán)和原子,;
3、O,、OH,、HO2與激發(fā)原子,、有機物分子、廢氣處理公司破碎的基團(tuán),、其他自由基等發(fā)生一系列反應(yīng),,有機物分子最終被氧化降解為CO、CO2,、H2O,。去除率的高低與電子能量和有機物分子結(jié)合鍵能的大小有關(guān)。
從除臭機理上分析,,主要發(fā)生以下反應(yīng):
H2O+O2,、O2-、O2+——SO3+H2O
NH3+O2,、O2-,、O2+——NOx+H2O
H2S去除率可達(dá)91.9%,NH3去除率可達(dá)93.4%,,臭氣濃度去除率可達(dá)93.6%,。
從上述反應(yīng)來看,惡臭組分經(jīng)過處理后,,轉(zhuǎn)變?yōu)镹Ox,、SO2、CO2,、H2O等小分子,,在一定的濃度下,各種反應(yīng)的轉(zhuǎn)化率均在95%以上,,而且惡臭濃度較低,,因此產(chǎn)物的濃度極低,均能被周邊的大氣所接受,。