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等離子清洗機(jī)的幾種頻率區(qū)別與運(yùn)用
常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體,，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體,，2.45GHz的等離子體為微波等離子體,。 不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣,，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右,，射頻等離子體的自偏壓為250V左右,，微波等離子體的自偏壓很低,，只有幾十伏,，而且三種等離子體的機(jī)制不同。
超聲等離子體(40KHZ)發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng),，射頻等離子體(13.56MHZ)發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng),，微波等離子體(2.45GHZ)發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。
超聲等離子體清洗對(duì)被清潔表面產(chǎn)生的影響大,，因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗,。
超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨,，材料親水等處理方面,，典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗；氬氣本身是惰性氣體,，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng),，而是通過離子轟擊使表面清潔,。
以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM）,，其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),，清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性,典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗,。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫姡菀着c碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),，產(chǎn)生二氧化碳,、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物,。
射頻等離子體清洗,，通過加入不同的氣體，可以使表面反應(yīng)機(jī)制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用,，即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕,，兩種清洗可以互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài),，容易吸收反應(yīng)劑,，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應(yīng),；
2.45G的微波等離子目前國(guó)內(nèi)用的比較少,。
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