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厚度影響因素

1?；牧吓c靶材的晶格匹配程度

2,、基片表面溫度

3. 蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時(shí)間,，厚度大小,。

組分均勻性

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上,，但是由于原理所限,，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好,。

晶向均勻性

1,。晶格匹配度

2。 基片溫度

3。蒸發(fā)速率

鍍膜材料

編輯

氧化物

一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,，五氧化二鈮Nb2O5,，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料,。

氟化物

氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2,，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2,，氟化鑭LaF3,，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3,，氟化鉺ErF3等高純氟化物,。

其它化合物

硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe,，氮化鈦TiN,，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3,，鈦酸鋇BaTiO3,，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3,，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料,。

金屬鍍膜材料

高純鋁Al，高純銅Cu,，高純鈦Ti,，高純硅Si，高純金Au,，高純銀Ag,，高純銦In，高純鎂Mg,，高純鋅Zn,，高純鉑Pt，高純鍺Ge,，高純鎳Ni,高純鉭TA,，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi,，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl,，銅銦鎵合金CuInGa,，銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料

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