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厚度影響因素

1,?；牧吓c靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3. 蒸發(fā)功率,，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間,，厚度大小。

組分均勻性

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,，具體可以調(diào)控的因素同上,，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜,，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好,。

晶向均勻性

1。晶格匹配度

2,。 基片溫度

3,。蒸發(fā)速率

鍍膜材料

編輯

氧化物

一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5,，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3,，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

氟化物

氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2,，氟化鈰CeF3,，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3,，氟化釔YF3,，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物,。

其它化合物

硫化鋅ZnS,，硒化鋅ZnSe,，氮化鈦TiN，碳化硅SiC,，鈦酸鑭LaTiO3,，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3,，鈦酸鐠PrTiO3,，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料

高純鋁Al,，高純銅Cu,，高純鈦Ti，高純硅Si,，高純金Au,，高純銀Ag，高純銦In,，高純鎂Mg,，高純鋅Zn，高純鉑Pt,，高純鍺Ge,，高純鎳Ni,高純鉭TA，金鍺合金AuGe,，金鎳合金AuNi,，鎳鉻合金NiCr,，鈦鋁合金TiAl,，銅銦鎵合金CuInGa，銅銦鎵硒合金CuInGaSe,，鋅鋁合金ZnAl,，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料

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