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貨物所在地:上海上海市
所在地: 上海
更新時間:2025-03-05 15:43:11
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PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕系統(tǒng)是一款低成本,,適合于科研機構(gòu)實驗室的桌面型科研設(shè)備,整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進行干法刻蝕,。該系統(tǒng)包括反應(yīng)腔室,,真空系統(tǒng),RF射頻系統(tǒng),,反應(yīng)氣路系統(tǒng),,電器控制,,軟件程序等幾個子系統(tǒng)。
整套系統(tǒng)為全自動化軟件控制,,支持recipe編寫,,支持多個工藝步驟自動運行的能力。設(shè)備設(shè)有互鎖,,斷電記憶,,自動報警,分子泵保護等安全保護功能,。為了保證設(shè)備的靈活性預(yù)留一定的升級空間,。
科研型等離子體干法刻蝕系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):
1.反應(yīng)腔室:T6060鋁合金,適合4寸及以下樣品,;
2.真空系統(tǒng)由分子泵以及機械泵組成,,真空測量系統(tǒng)采用電容式壓力計;
3.設(shè)備配有1000w的13.56MHz的射頻電源,,自動射頻匹配器,,以及射頻線纜以及專用射頻接頭;
4.配有4路反應(yīng)氣體,,最多刻升級至6路,;
5.ICP 等離子體刻蝕機整套系統(tǒng)為自動化控制系統(tǒng),該自動化系統(tǒng)通過PLC,、工控機以及控制軟件共同實現(xiàn),。
科研型等離子體干法刻蝕系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域:
微電子制造?:等離子刻蝕廣泛應(yīng)用于集成電路和芯片制造,用于制作電路中的細微結(jié)構(gòu),,如晶體管,、電容器等,以及修復(fù)或調(diào)整芯片上的電子設(shè)備,。
?光學器件制造?:等離子刻蝕技術(shù)可用于制造光學器件,,如光纖、光波導(dǎo)等,。通過控制等離子體的能量和密度,,可以在光學材料上形成所需的結(jié)構(gòu)和形狀。
?MEMS制造?:等離子刻蝕機可用于制造微機電系統(tǒng)(MEMS)中的細微結(jié)構(gòu)和器件,,例如微型傳感器,、無線通信設(shè)備和微機械運動系統(tǒng)等。
?光罩制造?:等離子刻蝕用于制造光罩上的圖案,,以及修復(fù)或修改光罩上的細微結(jié)構(gòu),。
?生物醫(yī)學應(yīng)用?:等離子刻蝕可用于生物醫(yī)學領(lǐng)域,如微流控芯片、生物芯片等的制造,,實現(xiàn)微觀結(jié)構(gòu)的制備,用于生物分析和實驗,。
?納米技術(shù)?:等離子刻蝕可以用于制造納米材料和納米結(jié)構(gòu),,如納米管、納米顆粒等,,通過控制等離子體的成分和反應(yīng)條件,,實現(xiàn)對材料的精確修飾和控制。
?晶圓制造?:在晶圓制造過程中,,等離子刻蝕機利用四氟化碳氣體進行硅片的線刻蝕,,以及氮化硅刻蝕和光刻膠的去除。通過調(diào)整氣體成分,,可以精確控制刻蝕深度,,實現(xiàn)微米級的高精度刻蝕。