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HMDS真空鍍膜機/真空烘箱產(chǎn)品介紹：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要,。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,，尤其是正膠,，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條,、浮膠等,，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。
HMDS真空鍍膜機/真空烘箱產(chǎn)品特點：
1、機外殼采用不銹鋼SUS304材質(zhì)制造,，內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成,；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置,。鋼化,、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2,、箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),，整體成型的硅橡膠門封圈,，確保箱內(nèi)高真空度。
3,、微電腦智能控溫儀,，具有設(shè)定，測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,，控溫準(zhǔn)確,，可靠。
4,、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,，溫度，真空度及每一程序時間,。
5,、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計，真空箱密封,，確保HMDS氣體無外漏顧慮,。
6、整個系統(tǒng)采用材料制造,，無發(fā)塵材料,，適用100級光刻間凈化環(huán)境。
HMDS真空鍍膜機/真空烘箱產(chǎn)品參數(shù)：

HMDS預(yù)處理的必要性：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要,。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,，尤其是正膠,，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條,、浮膠等,，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

真空鍍膜機的原理：
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度,、處理時間,、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片,、基片表面均勻涂布一層HMDS,，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量,，提高光刻膠與硅片的黏附性,。

真空鍍膜機的一般工作流程：
先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序為：打開真空泵抽真空,，待腔內(nèi)真空度達到某一高真空度后,，開始充人氮氣，充到達到某低真空度后,，再次進行抽真空,、充入氮氣的過程，到達設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,，開始保持一段時間,，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空,，充入HMDS氣體，在到達設(shè)定時間后,，停止充入HMDS藥液,，進入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng),。當(dāng)達到設(shè)定的保持時間后,，再次開始抽真空。充入氮氣,，完成整個作業(yè)過程,。HMDS與硅片反應(yīng)機理如圖：先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分,，然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),，在硅片表而生成硅醚，消除氫鍵作,，從而使極性表面變成非極性表面,。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進一步反應(yīng)。

尾氣排放等：多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出,，排放到廢氣收集管道,。在無廢氣收集管道時需做專門處理。