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HMDS處理系統(tǒng)的藥液泄漏處理方法
HMDS真空烘箱,，HMDS處理系統(tǒng)中HMDS泄漏處理方法
1.在污染區(qū)尚未*清理干凈前，限制人員接近該區(qū),。
2.確定清理工作是由受過訓(xùn)練的人員負(fù)責(zé)。
3.穿戴適當(dāng)?shù)膫€人防護(hù)裝備.
4.對該區(qū)域進(jìn)行通風(fēng)換氣,。
環(huán)境注意事項：抽氣通風(fēng),，移走撤離關(guān)閉所有可能之熱源、火星,、火花與火焰等之引火源與點火裝置,，若大量泄漏時先將泄漏區(qū)圍堵避免擴散。
HMDS清理方法：
少量泄漏時：以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物,。
大量泄漏時：將泄漏區(qū)域圍堵,，小心地道引將泄漏物抽取回收集桶。
超泓HMDS真空烘箱,，HMDS處理系統(tǒng)主要用途：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要,。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,，尤其是正膠,，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條,、浮膠等,，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵,、鈮酸鋰,、玻璃、藍(lán)寶石,、晶圓等材料表面后,，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,，起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS真空烘箱,，HMDS處理系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2200W
溫度范圍：RT+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：±1℃
達(dá)到真空度：133Pa（1torr）
工作室尺寸（mm）：450*450*450,550*550*350（可定做）
超泓HMDS真空烘箱,，上海超泓HMDS處理系統(tǒng)特點：
1、預(yù)處理性能更好
2,、處理更加均勻
3,、效率高
4、更加節(jié)省藥液
5,、更加環(huán)保和安全
6,、高安全保護(hù)性能
a.低液報警裝置
b.可自動吸取HMDS功能，
c.可自動添加HMDS功能,，
d.HMDS藥液泄漏報警功能,，
HMDS安全處置與儲存方法：
處置：HMDS易產(chǎn)生靜電，搬運時將所有設(shè)備與容器適當(dāng)接地,，并須固定牢固,，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。
存儲：置于陰涼,、干燥,、通風(fēng)處,、緊蓋容器，遠(yuǎn)離各種可能之熱源,、火星,、火花與火焰等之引火源與點火裝置，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚,。