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　　原子沉積系統(tǒng)是一款緊湊型獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng),，帶Labview軟件，具備四級(jí)密碼控制的用戶授權(quán)保護(hù)功能,。系統(tǒng)為全自動(dòng)的安全互鎖設(shè)計(jì),，并提供了強(qiáng)大的靈活性，
 

　　原子沉積系統(tǒng)的操作步驟：
 

　　1,、開機(jī)：開普氮(壓力0.4-0.6MPa),、高純氮?dú)馄?壓力小于0.1MPa)；開總電源,；開水冷機(jī),。
 

　　2、放樣品：點(diǎn)擊“進(jìn)氣”,，待壓強(qiáng)升至1個(gè)大氣壓后,，打開腔體，放入樣品,。點(diǎn)擊“設(shè)置”,，將流量重新設(shè)置為：20。
 

　　3,、開機(jī)械泵：先打開機(jī)械泵電源開關(guān),，然后點(diǎn)擊“泵閥開”。4,、設(shè)置溫度參數(shù)：點(diǎn)擊“設(shè)置”,，開始設(shè)置溫度參數(shù)，例如1：200度,；2：230度,；11(水)：50度，或者11(臭氧)：0度,；10(Al源)：0度,。循環(huán)次數(shù)根據(jù)需要設(shè)置。流量：20,。點(diǎn)擊“確定”,，開始加熱，加熱時(shí)間不少于45min,。
 

　　5,、排水：加熱45min后,，若之前用過水，而本次實(shí)驗(yàn)用臭氧,，則需排水,。點(diǎn)擊“模式1”，將前驅(qū)體4的脈沖時(shí)間設(shè)為：1000ms,，清洗時(shí)間設(shè)為：5s,，關(guān)閉小窗，點(diǎn)擊“開始”,，n個(gè)循環(huán)后,，點(diǎn)擊“結(jié)束”，排水完成,。
 

　　6,、設(shè)置沉積模式參數(shù)：點(diǎn)擊“模式1”或者“模式2”，設(shè)置前驅(qū)體和水(或者臭氧)的脈沖時(shí)間和清洗時(shí)間,。以沉積氧化鋁為例,，前驅(qū)體3為鋁源,，前驅(qū)體4為水(或者臭氧),，其他為空置，設(shè)置前驅(qū)體3的脈沖時(shí)間為：60ms,，清洗時(shí)間設(shè)為：10s,；設(shè)置前驅(qū)體4的脈沖時(shí)間為：50ms，清洗時(shí)間設(shè)為：30s,。
 

　　7,、設(shè)置載氣流量和循環(huán)次數(shù)：點(diǎn)擊“設(shè)置”，流量設(shè)置為：20,；循環(huán)次數(shù)根據(jù)所需樣品厚度而定,。
 

　　8、開始實(shí)驗(yàn)：打開相應(yīng)前驅(qū)體的手動(dòng)閥,，如果使用臭氧作為反應(yīng)源,，氣壓，開腔體,，取出樣品,。
 

　　10、抽真空：點(diǎn)擊“泵閥開”,，氣壓下降后,，點(diǎn)擊“進(jìn)氣”，關(guān)閉高純氮的減壓閥,，流量下降至1位數(shù)時(shí),，點(diǎn)“設(shè)置”,，將將流量重新設(shè)置為：0。
 

　　(若下次實(shí)驗(yàn)換另外的源,，則需排空,，具體操作：點(diǎn)擊“泵閥開”，氣壓下降后,，點(diǎn)擊“進(jìn)氣”,，點(diǎn)擊“模式1”，將前驅(qū)體3的脈沖時(shí)間設(shè)為：500ms,，清洗時(shí)間設(shè)為：5s,，將前驅(qū)體4的脈沖時(shí)間設(shè)為：1000ms，清洗時(shí)間設(shè)為：10s,，關(guān)閉小窗,，點(diǎn)擊“開始”，100個(gè)循環(huán)后,，點(diǎn)擊“結(jié)束”,，排空完成。)
 

　　11,、關(guān)儀器：點(diǎn)擊“設(shè)置”,，將1、2和11(水)的溫度設(shè)為：0,，將所用源的溫度設(shè)為：0,。點(diǎn)擊“泵閥關(guān)”，關(guān)機(jī)械泵,，關(guān)總電源,，關(guān)普氮、關(guān)水冷,。