電子級超純水系統(tǒng)的關鍵技術是什么

電子級超純水（UPW）系統(tǒng)是半導體、光伏,、顯示面板等行業(yè)的核心配套設備,，其水質要求極為苛刻（如電阻率≥18.2 MΩ·cm），中國電子級超純水水質標準如下表,。

表 1   電子級水的技術指標GB/T11446. 1— 2013

電子級超純水（UPW）系統(tǒng)技術難點主要集中在以下幾個方面：

一,、原水預處理階段的挑戰(zhàn)

1、微量污染物去除：需去除膠體,、有機物,、微生物、溶解氣體（如CO?）等,，傳統(tǒng)過濾技術難以穩(wěn)定達到ppb級,。

2、抗污染膜設計：超濾（UF）和反滲透（RO）膜需長期耐受高污染原水,，防止膜孔堵塞和性能衰減,。

3、化學藥劑兼容性：預處理中使用的殺菌劑,、絮凝劑可能引入二次污染（如Na?,、Cl?殘留）。

二,、離子去除技術的極限要求

1,、二級RO與EDI的協(xié)同優(yōu)化：

反滲透（RO）需實現(xiàn)99.5%以上的脫鹽率，且需應對低TOC進水條件,。

電去離子（EDI）需在無化學再生條件下持續(xù)產(chǎn)出超純水,，但高純水環(huán)境下離子遷移效率降低，易出現(xiàn)“極化現(xiàn)象",。

2,、痕量離子去除技術：對B、Si等弱電離物質的去除需特殊樹脂或電化學工藝（如除硼核級樹脂,、除硅樹脂）,。

三、微生物與TOC控制的矛盾

1,、超低TOC要求：需聯(lián)合紫外氧化（185nm UV）,、高級氧化（AOP）和特殊催化劑將有機物分解為CO?和水,，但可能產(chǎn)生中間產(chǎn)物干擾。

2,、微生物抑制：管道系統(tǒng)需避免生物膜滋生,，需采用臭氧或熱消毒（80℃循環(huán)），但高溫可能加速材料腐蝕,。

四,、顆粒與溶解氣體的ppb級別去除

1、納米級顆?？刂疲航K端過濾需使用≤0.1μm的超濾膜或納米纖維濾芯,，但壓差增大易導致顆粒釋放。

2,、溶解氧/CO?脫除：真空脫氣膜或膜接觸器需將O?降至ppb級,，CO?需通過高pH陰離子交換樹脂轉化。

五,、系統(tǒng)設計與超純材料難題

1,、超高潔凈材料：管道、閥門需采用電拋光316L不銹鋼或PVDF,，表面粗糙度＜0.5μm,，避免離子析出。

2,、零死體積設計：循環(huán)系統(tǒng)需保持≥1 m/s流速防止滯留污染,，但高流速可能引發(fā)顆粒脫落。

3,、實時監(jiān)測與反饋：在線傳感器（電阻率,、TOC,、顆粒計數(shù)器）需在超純水環(huán)境中保持精度,，避免信號漂移。

六,、 運行維護的穩(wěn)定性

1,、長期可靠性：樹脂、膜,、EDI,、過濾濾芯壽命受進水波動影響大，需預測性維護（如EDI電壓監(jiān)控）,。

卓水越電子級超純水