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[供應(yīng)]CTLD-T200-熱釋光退火爐
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  • CTLD-T200-熱釋光退火爐
貨物所在地:
北京北京市
產(chǎn)地:
北京海淀區(qū)太平路甲40號(hào)
更新時(shí)間:
2025-01-20 21:00:07
有效期:
2025年1月20日 -- 2025年7月20日
已獲點(diǎn)擊:
549
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

CTLD-T200精密熱釋光退火爐是開(kāi)展個(gè)人劑量監(jiān)測(cè)放射衛(wèi)生技術(shù)服務(wù)機(jī)構(gòu)專用產(chǎn)品,。是對(duì)熱釋光探測(cè)器進(jìn)行熱處理的專用設(shè)備,,用于熱釋光探測(cè)器使用前和照射后的熱處理(退火)

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹:

CTLD-T200精密熱釋光退火爐是開(kāi)展個(gè)人劑量監(jiān)測(cè)放射衛(wèi)生技術(shù)服務(wù)機(jī)構(gòu)專用產(chǎn)品。是對(duì)熱釋光探測(cè)器進(jìn)行熱處理的專用設(shè)備,,用于熱釋光探測(cè)器使用前和照射后的熱處理(退火),。使用前的熱處理用于消除探測(cè)器的殘余劑量(測(cè)后殘余劑量)和本底劑量(放置一段時(shí)間所產(chǎn)生的劑量值),恢復(fù)探測(cè)器的初始靈敏度和發(fā)光曲線形狀,;照后低溫退火用于消除探測(cè)器的低溫峰,,縮短測(cè)量周期,多用于大批量探測(cè)器的測(cè)量中,。CTLD-T200熱釋光退火爐是理想的退火裝置,。

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技術(shù)性能:

控溫范圍:從室溫到400℃連續(xù)可調(diào)

溫度顯示:液晶屏顯示

加熱體溫度波動(dòng):≤±2℃

升溫速度:室溫至400℃≤0.5h

標(biāo)定溫度:100℃,140℃,,240℃,,290℃,400℃

控溫精度:≤±1℃

工作時(shí)間:連續(xù)工作,,8h內(nèi)溫度漂移<±0.5%

電源:交流220V,、50HZ

尺寸:440mm×400mm×450mm

熱釋光劑量片主要計(jì)量學(xué)特征:

1、發(fā)光曲線:LiF:Mg,Ti熱釋光探測(cè)器在300℃以下具有6個(gè)發(fā)光峰,,一般第5個(gè)峰作為劑量測(cè)定峰,,峰值溫度為210℃左右。

2,、衰退:≤5.6%/年,。

3、均勻性:≤±3%(和探測(cè)器的分散性有關(guān))

4,、線性范圍:10-43Gy,。  

5、重復(fù)性:LiF:Mg,Ti熱釋光探測(cè)器重復(fù)性符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《個(gè)人和環(huán)境監(jiān)測(cè)用熱釋光劑量測(cè)量系統(tǒng)》(GB10264-2014)規(guī)定的要求,,其重復(fù)使用性能隨使用次數(shù)的增加更加穩(wěn)定,,一般在上百次以上。

6,、長(zhǎng)期穩(wěn)定性:在環(huán)境溫度低于40℃的環(huán)境下,,累積劑量信息的衰退在3-6個(gè)月內(nèi)可以忽賂不計(jì),若環(huán)境溫度≥50℃時(shí),,則其劑量信息的衰退約為(3-5)%/月,。

7,、能量相應(yīng):1.30(對(duì)30keV的X射線與60Coγ射線的響應(yīng)比

8、光照效應(yīng):對(duì)于室內(nèi)散射日光,、白熾燈光,、日光燈無(wú)明顯響應(yīng),對(duì)于直射陽(yáng)光照射則有明顯響應(yīng),。

應(yīng)用領(lǐng)域

對(duì)放射性輻射的個(gè)人劑量,、事故劑量、皮膚劑量和環(huán)境劑量的自動(dòng)化測(cè)量,。應(yīng)用于各級(jí)疾病預(yù)防控制中心,、輻射環(huán)境監(jiān)測(cè)站、出入境檢驗(yàn)檢疫,、食品藥品檢測(cè)中心,、醫(yī)院放射科、核醫(yī)學(xué)科,、核電站,、高等院校核工程與核技術(shù)研究等。

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