Nisene化學(xué)芯片開(kāi)封機(jī)的優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)分析
2.一條高亮度六線字母數(shù)字的顯示在所有情況排煙柜的照明下保證很好的可見(jiàn)性;
3.蝕刻劑混合選擇確保準(zhǔn)確性及重復(fù)率,1ml~6ml/sec 的酸量選擇能提供更好的腐蝕效果,;
4.JetEtch pro CuProtect 酸混合選擇:JetEtch pro CuProtect軟件可以使用硝酸,、硫酸或混合酸,另含13組混酸比率,;
5.通常使用的治具會(huì)與設(shè)備一同提供;通常情況不需要樣品制備,;
6.蝕刻劑流向選擇:渦流蝕刻和脈沖蝕刻,JetEtch pro CuProtect廢酸分流閥,;
7.酸和廢酸存儲(chǔ)在標(biāo)準(zhǔn)化的酸瓶中,;
8.不會(huì)有機(jī)械損傷或影響焊線;不會(huì)有腐蝕性損傷或影響外部引腳,;可以選擇硝酸,、冷硫酸進(jìn)行沖洗或不沖洗;
9.無(wú)需等待,,*腐蝕一顆樣品多只要1~2分鐘,;
10.設(shè)備小巧,只需很小的空間擺放,;安全蓋凈化:安全、簡(jiǎn)單,、牢靠,;
11.主要可設(shè)置的試驗(yàn)參數(shù)包括:采用刻蝕酸的種 類、刻蝕酸的比例,、蝕刻溫度,、蝕刻時(shí)間、酸的流量(酸的用量),、清洗的時(shí)間等,。