三維表面形貌測量儀采用了上等光學(xué)系統(tǒng),可通過非破壞觀察法生產(chǎn)高畫質(zhì)的圖像并進(jìn)行3D測量,,可以滿足不同樣品的觀測需求,。本產(chǎn)品是用于表面結(jié)構(gòu)測量和表面形貌分析的一款檢測設(shè)備,測量精度重復(fù)性達(dá)到世界較高水平,;關(guān)鍵硬件采用美國、德國,、日本等,;配備進(jìn)口第三方校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)件,高性價比微觀形貌測量設(shè)備,。

應(yīng)用:
三維表面形貌測量儀用來測量表面物理形貌,,進(jìn)行微納米尺度的三維形貌分析,,如3D表面形貌、2D的縱深形貌,、輪廓,、表面粗糙度等;
1,、精密部件:檢測對表面磨損,,表面粗糙度,表面微結(jié)構(gòu)有要求的零部件,,比如發(fā)動機汽缸,、刀口等;
2,、生命科學(xué):測量stents支架上鍍層厚度等,;
3、微電子機械系統(tǒng):微型器件的檢測,,醫(yī)藥工程中組織結(jié)構(gòu)的檢測,,如基因芯片等;
4,、半導(dǎo)體:檢測微型電子系統(tǒng),,封裝及輔助產(chǎn)品結(jié)構(gòu)設(shè)計;
5,、太陽能:太陽能電池片柵線的3D形貌表征,、高寬比測量,制絨后3D形貌表征,,粗糙度分析等,;
6、紙張:紙張,、錢幣表面三維形貌測量,;
7、LED:用于藍(lán)寶石襯底的測量,,抽檢PSS ICP后的WAFER的3D形貌,。
產(chǎn)品特性:
1、采用白光共聚焦色差技術(shù),,可獲得納米級的分辨,;
2、測量具有非破壞性,,測量速度快,,精確度高;
3、測量范圍廣,,可測透明,、金屬材料,半透明,、高漫反射,,低反射率、拋光,、粗糙材料,;
4、尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面,;
5,、不受樣品反射率的影響;
6,、不受環(huán)境光的影響,;
7、測量簡單,,樣品無需特殊處理,。