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一,、爾莫新材料KDH-500小型真空電弧爐 設(shè)備用途 ：

用途廣泛：可用于超高溫金屬合金、高熵合金,，稀貴金屬的冶煉制備,，母合金的制備，也可用于光譜分析或合金研究的樣品制備：能夠快速獲得合適大小的均質(zhì)金屬塊,，方便直讀光譜儀,、X 射線熒光光譜儀的快速檢測(cè)，以達(dá)到事半功倍的效果,。

也可用做快速熔樣：大部分難熔合金樣品的熔融時(shí)間為 50 ~ 60 秒,，這樣的速度能盡量減

爾莫新材料KDH-500小型真空電弧爐優(yōu)點(diǎn)：

1、少樣品揮發(fā)：在高達(dá) 1980 攝氏度的熔化溫度下,，樣品幾乎沒(méi)有燒損,。例如，容易與氧元素結(jié)合的易燒損的硼元素在高溫合金的含量為 0.003%,，經(jīng)過(guò)第三方測(cè)試結(jié)果表明,，硼元素在用熔樣爐熔融時(shí)幾乎沒(méi)有損失,。其他易燒損元素，如硅,、錳,、鈦、鋁,、鎂,、錸等都可以保護(hù)的很好。

2,、帶電弧攪拌：強(qiáng)烈的電弧火花攪拌配合移動(dòng)操縱桿可獲得均質(zhì)效果,，以消除樣品粒度和基體效應(yīng)產(chǎn)生的影響。使熔制出的樣品均勻性很好,，保證了測(cè)試結(jié)果代表性和準(zhǔn)確性

3,、快速水冷銅坩堝：銅坩堝四周循環(huán)水冷卻，樣品可輕易脫出,，同時(shí)由于冷卻速度快,，達(dá)到了快速急冷的效果，也就能滿足鑄鐵產(chǎn)品快速冷卻白口化的效果,。同時(shí)無(wú)需脫模劑,，且不會(huì)造成樣品與坩堝的交叉污染，可以直接熔化合金粉末樣品,，避免了其它熔樣爐操作復(fù)雜以及鉑金坩堝被腐蝕的問(wèn)題

4,、·氬氣保護(hù)（可結(jié)合抽真空：在高純的氬氣環(huán)境保護(hù)下熔樣，可避免表面氧化,。滿足苛刻的科研要求,，也可以不抽真空或改充二氧化碳保護(hù)氣，以模擬現(xiàn)場(chǎng)焊接狀態(tài),。

二,、技術(shù)參數(shù)

3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-24直聯(lián)泵,、TK-150擴(kuò)散泵,、氣動(dòng)擋板閥和各種管路

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa,，可配置低配真空系統(tǒng)或者其他高配真空系統(tǒng)

5,、熔煉電流：額定電流500A

6、熔煉坩堝 有三個(gè)工位：一個(gè)熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌,，一個(gè)吸鑄工位30-70g 一個(gè)異型長(zhǎng)條工位,，冶煉工位可根據(jù)客戶需要定制

7、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 50-70克

8、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套

9,、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧