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產(chǎn)品簡介
200g超高溫非自耗真空電弧爐 用途廣泛：可用于超高溫金屬合金,、高熵合金,，稀貴金屬的冶煉制備,，母合金的制備,，也可用于光譜分析或合金研究的樣品制備：能夠快速獲得合適大小的均質(zhì)金屬塊，方便直讀光譜儀,、X 射線熒光光譜儀的快速檢測,，以達(dá)到事半功倍的效果
詳細(xì)介紹
一、200g超高溫非自耗真空電弧爐設(shè)備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料,。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備,。
二,、200g超高溫非自耗真空電弧爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號： KDH-1000
2,、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3,、真空系統(tǒng)配置：VRD-24直聯(lián)泵、JTFB-600分子泵,、一臺高真空插板閥,，兩臺氣動擋板閥和旁路閥及管道組成。
4,、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-4Pa
5,、熔煉電流：額定電流1000A
6、腔室尺寸：￠400*410
7,、電源功率：60KW
8,、熔煉坩堝 設(shè)計(jì)有五個(gè)工位。一個(gè)半球形帶吸鑄功能的工位,，四個(gè)熔煉除氣工位,。五工位均勻規(guī)則排列，工位容重（樣品重量）150-200克,。其中1~3個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能,。
9、工作氣體：Ar氣,；
10,、翻料方式：手動懸臂翻料,，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件
11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
12,、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu),，簡便有效；電極桿電動升降,，操作便攜
13,、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。
