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KDH-500真空電弧爐
1,、采用高純氬氣保護(hù)，熔煉溫度可達(dá)3500℃2,、真空腔體小,，可快速抽真空，快速充氬氣3,、水冷銅電極可移動(dòng),，可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5,、采用真空計(jì)測(cè)量真空,，壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛7,、桌面式設(shè)計(jì),，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
KDH-500稀貴金屬提純爐提煉爐 非自耗真空電弧爐
一,、 KDH-500稀貴金屬提純爐提煉爐非自耗真空電弧爐設(shè)備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,，稀貴金屬的提純提煉，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料,。適用于高校,、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二,、KDH-500稀貴金屬提純爐提煉爐非自耗真空電弧爐設(shè)備組成：
主要由電弧熔煉真空室,、電弧槍、電弧熔煉電源,、五工位水冷銅坩堝,、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置,、工作氣路,、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng),、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成,。
三、KDH-500稀貴金屬提純爐提煉爐非自耗真空電弧爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1,、型號(hào)： KDH-500
2,、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、具有熔煉與吸鑄功能,，吸鑄模具與水冷模具套滑配,，保證冷卻效果的同時(shí),，拆卸方便
4、真空系統(tǒng)配置：飛越直聯(lián)泵,、TK-150擴(kuò)散泵,、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路
5、冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10E-3Pa
6,、熔煉電流：額定電流≤450A
7,、電弧熔煉水冷坩堝：五個(gè)工位；其中有一工位用于吸鑄,，容重（樣品重量）30-80(克）/熔煉池,，一個(gè)長(zhǎng)條工位容重（樣品重量）80-150(克；1~2個(gè)磁攪拌工位,，攪拌可切換
8,、攪拌方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件,；
9,、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效,；電極桿電動(dòng)升降,，操作便攜。
10·爐體側(cè)部開(kāi)門,，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便,，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。
11,，真空系統(tǒng)獨(dú)立安裝,，方便拆卸并便于和其他真空設(shè)備對(duì)接，一套多用,。
12,、工作氣體：Ar氣；
13,、冷卻方式：水冷,，水壓保護(hù)，含自動(dòng)報(bào)警,；