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KDH-2000自耗真空電弧爐熔煉爐

一,、設(shè)備用途 ：

用于 富勒烯,，碳納米烯，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用,，也廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點金屬/合金,，以及材料的提純等

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1,、型號： KDH-2000

2,、電弧熔煉室：臥式圓筒型真空室

3,、真空系統(tǒng)配置：由2X-30旋片式機械泵、TK-200擴散泵,、三臺高真空閥門和各種管路組成高真空系統(tǒng)真空度可達6.7*10-3pa

4,、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-3Pa

5、自耗電流：額定電流2000A（電源客戶自備）

6,、熔煉工位： 兩工位安裝在同一真空腔室,，可獨立工作

7、工作氣體：Ar氣,；

8,、電極升降方式：伺服電動升降

9、電極升降速度：慢速升降速度：0~60mm/min

                 快速升降速度：0-300mm/min

10,、引弧方式：高頻引弧

11,、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,，爐體上有兩個觀察視窗,。可清楚看到爐內(nèi)工作情況,，