產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
一,、微型非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介
微型電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,,用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦,、鉬,、鈮,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料,。
適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備,。本設(shè)備采用桌
面式結(jié)構(gòu),占地空間小,。
二,、非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐產(chǎn)品特點(diǎn)
1、采用高純氬氣保護(hù),,熔煉溫度可達(dá)3500℃
2,、真空腔體小,可快速抽真空,,快速充氬氣,,效率快及氬氣消耗非常少
3、水冷銅電極可移動(dòng),,可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品
- 水冷銅坩堝可方便拆卸
5,、采用真空計(jì)測(cè)量真空,壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力
6,、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛
- 桌面式設(shè)計(jì),,占地空間小,特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
- 微型非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐設(shè)備參數(shù):
1·設(shè)備電源,,AC220V 50HZ
2·設(shè)備功率:10kw
3·設(shè)備容量:0~20g
4·水冷銅模:標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個(gè)12*φ25,;5個(gè)4*φ8樣品鍋,另可根據(jù)客
戶要求定制
5·真空吸鑄:(選配)吸鑄直徑0~3mm
四,、非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介
微型電弧爐由真空室,、水冷電極、水冷銅模,、氣路系統(tǒng),、坩堝升降系統(tǒng)、機(jī)殼和
熔煉電源組成。
1,、真空室:采用304機(jī)加工件和厚壁石英管復(fù)合結(jié)構(gòu),,既滿足高真空要求,又便
于觀察實(shí)驗(yàn)情況,。
2,、水冷電極:頂部和底部放分別通有正負(fù)電極,,頂部為機(jī)械手結(jié)構(gòu),,可方便的
在幾個(gè)樣品之間移動(dòng),密封采用動(dòng)密封裝置,,保證在移動(dòng)過(guò)程中的真空度,。
3、水冷銅模:標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個(gè)12*φ25,;5個(gè)4*φ8樣品鍋,,另可根據(jù)客戶要
求定制;
4,、氣路系統(tǒng):由壓力傳感器,、電磁閥、壓力罐,、手動(dòng)閥門和管路組成,,可方便
的實(shí)現(xiàn)手動(dòng)充放氣,還可實(shí)現(xiàn)超壓排氣,,保護(hù)真空室安全,。
5、坩堝升降系統(tǒng):底部水冷銅??蓪?shí)現(xiàn)上下升降,,帶鎖緊裝置,可非常方便的
進(jìn)出料,。
6,、機(jī)殼:結(jié)合國(guó)內(nèi)外設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn),根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn),,設(shè)計(jì)出合理機(jī)殼,,外
表噴塑處理;
7,、熔煉電源:定制的電弧熔煉電源,,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)小巧,;