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一、真空懸浮熔煉爐設(shè)備用途

真空磁懸浮熔煉方法,，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法,，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬,，在冶金和高*材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景,。
二,、真空懸浮熔煉爐設(shè)備特點

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉,，干凈無污染,。

2·冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上,，專門應(yīng)用于高熔點難熔金屬,，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮IGBT電源,，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝,，懸浮效果好。

4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高,，可達5.0*10-5pa,。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1,、額定功率：65Kw

2,、容量（以鈦計）：0.25Kg

3、輸入電源：3 相,、 380 ± 10 ％,、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa