產(chǎn)品簡介
該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型,;噴鑄制作非晶顆粒,,亞晶體顆粒,,微粒,,適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備,。采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣,,可用于制備大塊非晶材料 結(jié)構(gòu)組成 本設(shè)備主要由真空腔體、熔煉裝置,、噴鑄裝置,、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng),、爐體支架,、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成,。
詳細(xì)介紹
真空噴鑄爐產(chǎn)品簡介
該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型,;噴鑄制作非晶顆粒,亞晶體顆粒,,微粒,,適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。
真空噴鑄爐產(chǎn)品詳細(xì)信息
設(shè)備特點 設(shè)備用途:
該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型,;噴鑄制作非晶顆粒,,亞晶體顆粒,微粒,適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備,。
A· 實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料
B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣,,可用于制備大塊非晶材料 結(jié)構(gòu)組成 本設(shè)備主要由真空腔體、熔煉裝置,、噴鑄裝置,、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng),、爐體支架,、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成,。
設(shè)備參數(shù)
1,、每次甩帶、噴鑄合金:50g~300g
2,、每次熔煉澆鑄合金:50~1000g
3,、高真空室真空度:≤5.0×10E-3Pa
4、加熱電源功率:25Kw,;頻率范圍:30~80KHz
5,、可通入氮氣、氬氣等惰性氣體
6,、銅輥直徑:220mm,,寬度:40mm
7、銅輥線速度:5~70m/S 8,、水流量:3~100L/min
1,、真空腔體:由爐體、爐蓋和爐底組成,;爐體由304不銹鋼法蘭和內(nèi)外筒體組焊而成,,內(nèi)壁鏡面拋光,爐體上開設(shè)有壓鑄接口,、噴鑄接口,、旋轉(zhuǎn)電極接口、甩帶收集管,、紅外測溫接口,、模具預(yù)熱電源電極引入接口;爐蓋由整體實心304加工而成,,上面開設(shè)有大直徑觀察窗,,可直觀的觀測到爐內(nèi)的各種實驗情況;爐底也是由整體實心304加工而成,,固定有甩帶裝置,。整體外觀啞光處理,,整潔大方。
2,、熔煉裝置:由 IGBT超音頻電源,、水冷電纜、旋轉(zhuǎn)電極,、線圈,、保溫套和坩堝組成,通過更換線圈,、保溫套和坩堝實現(xiàn)不同容量,。***高溫度可加熱至1700℃。(容量按照50g,200g,500g,1000g來配),,熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內(nèi),。
3、噴鑄裝置:由氣缸,、石英管、時間繼電器,、氣源恒定裝置等組成,,可實現(xiàn)小容量溶液的噴帶和噴鑄。(噴鑄配石英管,,***大容量50g) 4,、甩帶裝置:由噴鑄裝置、高速調(diào)速電機(jī),、磁流體密封裝置和銅棍等組成,,可通過調(diào)節(jié)電機(jī)速度,實現(xiàn)不同銅棍線速度,。
5,、抽真空系統(tǒng):由一臺擴(kuò)散泵、一臺雙極直聯(lián)泵,、三臺氣動擋板閥,、真空管路和真空計等組成,冷態(tài)極限真空度優(yōu)于5.0×10E-3Pa,。
6,、爐體支架:由型材和鋼板拼裝而成,門板全部采用數(shù)控加工,,尺寸精度高,,外表噴塑處理,整體布局合理,,顏色搭配美觀,。和電控柜采用一體結(jié)構(gòu),。
7、電氣控制系統(tǒng):各種電氣元器件采用,,按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制作而成,。面板采用模擬屏,可直觀控制設(shè)備的各部件,,并有水欠壓,、斷水聲光報警并自動切斷加熱功能。
8,、水冷卻系統(tǒng):由水冷機(jī),、各種閥門和水管等組成,帶有電接點水壓表,,具有超壓,、欠壓報警功能。(水冷機(jī)為選配件)