一,、爾莫新材料KDH-500小型真空電弧爐 設(shè)備用途 ：

用途廣泛：可用于超高溫金屬合金,、高熵合金，稀貴金屬的冶煉制備,，母合金的制備,，也可用于光譜分析或合金研究的樣品制備：能夠快速獲得合適大小的均質(zhì)金屬塊，方便直讀光譜儀,、X 射線熒光光譜儀的快速檢測,，以達(dá)到事半功倍的效果。

也可用做快速熔樣：大部分難熔合金樣品的熔融時間為 50 ~ 60 秒,，這樣的速度能盡量減

爾莫新材料KDH-500小型真空電弧爐優(yōu)點(diǎn)：

1,、少樣品揮發(fā)：在高達(dá) 1980 攝氏度的熔化溫度下，樣品幾乎沒有燒損,。例如,，容易與氧元素結(jié)合的易燒損的硼元素在高溫合金的含量為 0.003%，經(jīng)過第三方測試結(jié)果表明,，硼元素在用熔樣爐熔融時幾乎沒有損失,。其他易燒損元素，如硅,、錳,、鈦、鋁,、鎂,、錸等都可以保護(hù)的很好。

2,、帶電弧攪拌：強(qiáng)烈的電弧火花攪拌配合移動操縱桿可獲得均質(zhì)效果,，以消除樣品粒度和基體效應(yīng)產(chǎn)生的影響。使熔制出的樣品均勻性很好,，保證了測試結(jié)果代表性和準(zhǔn)確性

3,、快速水冷銅坩堝：銅坩堝四周循環(huán)水冷卻，樣品可輕易脫出,，同時由于冷卻速度快,，達(dá)到了快速急冷的效果，也就能滿足鑄鐵產(chǎn)品快速冷卻白口化的效果,。同時無需脫模劑,，且不會造成樣品與坩堝的交叉污染，可以直接熔化合金粉末樣品,，避免了其它熔樣爐操作復(fù)雜以及鉑金坩堝被腐蝕的問題

4,、·氬氣保護(hù)（可結(jié)合抽真空：在高純的氬氣環(huán)境保護(hù)下熔樣，可避免表面氧化,。滿足苛刻的科研要求,，也可以不抽真空或改充二氧化碳保護(hù)氣，以模擬現(xiàn)場焊接狀態(tài),。

二,、技術(shù)參數(shù)

3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-24直聯(lián)泵,、TK-150擴(kuò)散泵,、氣動擋板閥和各種管路

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa,，可配置低配真空系統(tǒng)或者其他高配真空系統(tǒng)

5,、熔煉電流：額定電流500A

6、熔煉坩堝 有三個工位：一個熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌,，一個吸鑄工位30-70g 一個異型長條工位,，冶煉工位可根據(jù)客戶需要定制

7、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 50-70克

8,、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套

9,、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧