一、KDH-500真空電弧爐電弧熔煉爐優(yōu)點有哪些設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點金屬/合金,，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料,。適用于高校,、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備,。

KDH-500真空電弧爐電弧熔煉爐優(yōu)點有哪些

1. 樣品可以是粉末、絲狀,、屑狀及鉆屑,、粒狀、條狀,、環(huán)狀,、泥沙狀等；

2. 大部分金屬材料加熱重熔時間為一分鐘或更少,；

3. 熔樣爐的高強度電弧重熔能起到均勻混合樣品的作用,；

4.陽 4. 陽極有石墨電極和鎢電極兩種；鎢電極壽命長,，價格貴,，石墨電極價格便宜，會燒損,；

5. 坩鍋為銅材,，同時采用水冷，且有一定傾斜角度并可旋轉(zhuǎn),，利于樣品快速冷卻和取出,；

6. 電源可由用戶自行提供，一般可采用國產(chǎn)的電焊機電源,；

7. 采用惰性氣體保護,，一般用普氬，也可以結(jié)合采用抽真空的方式,。

二,、KDH-500真空電弧爐電弧熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號： KDH-500

2,、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3,、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴散泵,、氣動擋板閥和各種管路

4,、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa

5,、熔煉電流：額定電流500A

6、熔煉坩堝 有三個工位：一個熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌,，一個吸鑄工位30-70g 一個異型長條工位

7,、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 50-70克

8、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套

9,、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧