KDH-500真空電弧爐

一,、 KDH-500真空電弧爐設備用途 ：

用于熔煉高熔點金屬/合金,，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校,、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備,。

二、設備組成：

主要由電弧熔煉真空室,、電弧槍,、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝,、翻轉(zhuǎn)機械手,、真空吸鑄裝置,、工作氣路,、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng),、安裝機臺等各部分組成,。

三、設備主要技術參數(shù)：

1,、型號： KDH-500

2,、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3,、具有熔煉與吸鑄功能,，吸鑄模具與水冷模具套滑配,，保證冷卻效果的同時,，拆卸方便

4、真空系統(tǒng)配置：飛越直聯(lián)泵,、分子泵泵、三臺氣動擋板閥和各種管路

5,、冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10E-4Pa

6,、熔煉電流：額定電流≤500A

7,、電弧熔煉水冷坩堝：五個工位,；其中有一工位用于吸鑄,，容重（樣品重量）5-80(克）/熔煉池,，四個熔樣工位容重（樣品重量）50-100g(1~2個磁攪拌工位，攪拌可切換

8,、攪拌方式：手動懸臂翻料,，有機械手翻轉(zhuǎn)組件,；

9,、電極桿和機械手均采用球密封機構,，簡便有效,；電極桿電動升降,，操作便攜,。

10·爐體側部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況,。

11,，真空系統(tǒng)獨立安裝,，方便拆卸并便于和其他真空設備對接,，一套多用,。

12、工作氣體：Ar氣,；

13,、冷卻方式：水冷，水壓保護,，含自動報警,；