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美國Agilent Turbo-V 1K-G進口渦輪分子泵

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  • 美國Agilent Turbo-V 1K-G進口渦輪分子泵

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  • 型號
  • 品牌 Agilent/安捷倫
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 杭州市

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更新時間:2025-05-22 09:27:39瀏覽次數(shù):753

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!

產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別 進口 產(chǎn)品類型 有油泵
價格區(qū)間 10萬-20萬 儀器種類 分子泵
美國Agilent Turbo-V 1K-G進口渦輪分子泵,該裝置是專門為薄膜沉積設備精心設計的分子泵系統(tǒng),。其葉片級數(shù)和泵的整體結(jié)構(gòu)均經(jīng)過優(yōu)化,,可以在高流速的氬氣氛圍下和溫度*的環(huán)境中工作,。另外,,可通過遠程機架控制器或泵機一體式控制器來驅(qū)動泵,。所有這些特點使安捷倫 Turbo-V 1K-G 成為了鍍膜工業(yè)的高真空解決方案,。

詳細介紹

Agilent Turbo-V 1K-G特性

1,、為薄膜沉積應用而專門設計的分子泵解決方案

2、極快的抽速和高氣體通量

3,、耐用型的設計和高效運行的冷卻系統(tǒng),,可實現(xiàn)連續(xù)運行

4、能夠保護軸承的氣體吹掃

5,、機架式 Navigator 控制器的樣品架類型

6,、通用電子器件接口和操作簡單的控制軟件

7、模擬 I/O 信號和 RS232/RS485 接口(為標準Agilent Profibus 接口選項)

 

美國Agilent Turbo-V 1K-G進口渦輪分子泵,,該裝置是專門為薄膜沉積設備精心設計的分子泵系統(tǒng),。其葉片級數(shù)和泵的整體結(jié)構(gòu)均經(jīng)過優(yōu)化,可以在高流速的氬氣氛圍下和溫度*的環(huán)境中工作,。另外,,可通過遠程機架控制器或泵機一體式控制器來驅(qū)動泵,。所有這些特點使安捷倫 Turbo-V 1K-G 成為了鍍膜工業(yè)的高真空解決方案。

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵,,其設計旨在實際應用中達到高性能,。泵的緊湊型設計滿足工業(yè)中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護,,并可避免錯誤使用,。無論您是終端用戶還是原始設備制造商,安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持,,或定制適合您的需求的系統(tǒng),。

 

典型渦輪泵應用

領域詳細說明應用

 

 

質(zhì)譜和分析儀器

  • 針對質(zhì)譜系統(tǒng)優(yōu)化的全系列泵和控制器
  • 具有多入口泵組的定制泵
  • 低成本、易于使用,、高分析性能
  • 對于 GC/MS,,提供用于相對低氣體載荷環(huán)境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口
  • 對于 LC/MS,需要提供多室,、高通量真空系統(tǒng)
  • 對于 ICP-MS,,提供多種真空系統(tǒng),包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池
  • 對于 TOF 系統(tǒng),,需要較小尺寸,、高通量和高效的散熱設備
  • 質(zhì)譜
  • GC/MS
  • LC/MS
  • ICP-MS
  • TOF

 

科研中的真空應用

  • 非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV
  • 粗真空軸承未暴露于 UHV,,降低了污染
  • 高速和高壓縮
  • 可以以任意角度安裝
  • 聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 高能物理
  • 融合技術(shù)
  • 一般 UHV 研究
  • 同步光源粒子加速器

 

 

 

 

 

 

工業(yè)真空加工

  • 為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案
  • 適用于原始設備制造商和終端用戶的專業(yè)性能
  • 適用于具有預真空鎖或大型內(nèi)聯(lián)連續(xù)系統(tǒng)的單室批量系統(tǒng)和多室系統(tǒng)的泵

薄膜沉積:

  • 玻璃涂層設備(建筑和汽車玻璃,,平板顯示器)
  • 薄膜太陽能電池生產(chǎn)(光電)
  • 光學數(shù)據(jù)介質(zhì)(CD、DVD,、磁光光盤)
  • 磁性存儲介質(zhì)
  • 表面處理
  • 光學涂層(眼科,、精密光電)
  • 膜或箔上的輥式/卷繞涂覆

設備加工:

  • 生產(chǎn)電視機和顯示器顯像管
  • 疏散燈(高速公路照明、投影機)
  • X 射線管和電子設備

一般工藝:

  • 真空爐/冶金

 

 

 

納米技術(shù)儀器

  • 分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質(zhì)
  • 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM,、TEM 和表面分析系統(tǒng)
  • 低振動渦旋泵適用于敏感的顯微分析
  • 可快速,、無油式排空大型樣品室內(nèi)的氣體
  • 集成的泵控制器可靈活進行控制,幾乎不生成電磁噪音
  • 非常適合為半導體生產(chǎn)創(chuàng)造合適環(huán)境
  • 高轉(zhuǎn)速確保能夠以高泵速抽空半導體生產(chǎn)中釋放的輕質(zhì)氣體(He,、H)
  • 符合高速循環(huán)應用的嚴格要求,,例如真空裝載鎖
  • 通過對多個渦旋泵聯(lián)用一個前級泵,可提高工具的可靠性
  • 聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處
  • 電子顯微鏡(SEM,、TEM)
  • 聚焦離子束系統(tǒng) (FIB)
  • 表面分析
  • 半導體制造

美國Agilent Turbo-V 1K-G進口渦輪分子泵技術(shù)規(guī)格

抽速:
ISO 160:
ISO 200:


Ar:750 L/s

Ar:1040 L/s


N2:810 L/s

N2:1080 L/s


He:950 L/s/

He:1150 L/s

 


H2:680 L/s

H2:730 L/s

 

壓縮比:Ar:5 × 108N2:5 × 107He:4 × 104H2 1.5 × 104
極限真空*(使用推薦的前級泵)< 1 × 10-10 mbar   
入口法蘭ISO 160F,,ISO 200F   
前級管道法蘭
ISO 160:
ISO 200:
KF 25 NW
KF 40 NW
   
額定轉(zhuǎn)速45500 rpm   
啟動時間< 5 分鐘   
推薦的小前級泵> 20 m3/h (TriScroll 600, DS 602)   
工作位置任意位置   
操作環(huán)境溫度+5 °C 至 +35 °C   
烘烤溫度

 入口法蘭高溫度 80 ℃(ISO 法蘭)

   
振動參數(shù)(位移)

在入口法蘭處小于 0.01 μm

   
冷卻要求   
電源
輸入電壓:100-240 Vac
大運行功率:
< 輸入頻率:50-60 Hz
使用氮氣和輕質(zhì)氣體(水冷設置)時為 400 W
使用氬氣(風冷設置)時為 260 W
大輸入功率:600 VA待機功率:30 至 35 W 
保險絲(Navigator 控制器)1 × 6.3 A   
串行通信(Navigator 套件)RS232 電纜,9 針 D 型外插頭和 9 針 D 型插口,,以及 Navigator 軟件(可選)  
儲存溫度-20 °C 至 +70 °C   
重量

26.8 kg(59.1 磅)

 

 

 

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