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關(guān)于E+H雷達料位計的測量條件都有那些呢,？

 

• ·出現(xiàn)沸騰表面、起泡表面或易生成泡沫液面時,，使用FMIR53或PMR54測量,。根據(jù)泡沫的具體成份，泡沫可以吸收微波,，或微波在泡沫表面發(fā)生發(fā)射,。在特定條件下，測量仍可進行,。使用FIR50FMR51和FMR52測量時,，建議選擇附加選項“動態(tài)響應(yīng)”（訂購選項540：“應(yīng)用軟件包”,，選型代號：BM）。
• ·出現(xiàn)嚴(yán)重蒸汽或冷凝現(xiàn)象時,，E+H雷達物位計FMR50,，F(xiàn)MR51和FMR.52的大測量范圍可能會減小，取決于蒸汽的密度,、溫度和成份>,；請使用FMR53或FMR.54測量。
• ·測量吸附性氣體時,，例如：氨氣MH3或某些碳氫化合物2）,，請在導(dǎo)波管中使用Levelflex或Micropilot FMR54測量。
• ·波束射至罐底的位置即為量程起點,。特別是在圓盤底罐或帶錐形出料口的罐體中,，物位低于此點，便無法測量,。
• 在導(dǎo)波管中測量時,，電磁波不會*擴散至導(dǎo)波管外部，應(yīng)將零點設(shè)置在導(dǎo)波管底部,。在c范圍內(nèi)測量時,，測量精度將降低。為了確保此類應(yīng)用場合中所需的測量精度,，建議將零點設(shè)置在導(dǎo)波管底部上方的C,。
• ·測量低介電常數(shù)的介質(zhì)時（e，=1,。,。。4）3）,，如果介質(zhì)處于較低物位（低于C）,，罐底可見。在此范圍內(nèi)測量時,，精度將降低,。如無法接受，在此類應(yīng)用場合中,，建議將零點設(shè)置在罐底上方的C,。
• ·理論上，E+H雷達物位計大可測量至PMR51,，F(xiàn)MR53和FMR54天線末端,。但是，考慮腐蝕和粘附的影響,，大量程與天線末端間的距離不得小于A,。
• ·使用帶平面天線的FMR54測量時,，特別是測量低介電常數(shù)的介質(zhì)時，大量程與法蘭間的距離不得小A：1 m（3,。28 ft）,。
• 小測量范圍B取決于天線類型。,，罐體高度應(yīng)至少為H（參考下表）,。