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低溫恒溫循環(huán)器的應用領域

閱讀:2659      發(fā)布時間:2019-5-7
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1.材料領域:電鏡,、X射線衍射、X熒光,、真空濺射電鍍,、真空鍍膜機、ICP刻蝕,、各種半導體設備,、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng),、原子沉積系統(tǒng)等,。

2.物化領域:激光器、磁場,、各種分子泵,、擴散泵、離子泵以及包括材料領域,。使用的各種需水冷設備,。

3. 生化領域:旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀,、旋光儀,、原子吸收、ICP-MS ,、ICP,、核磁共振、CCD,、生物發(fā)酵罐,、化學反應器(合成器)等。

4. 對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工,、熔接機的發(fā)熱部分,、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等,。

5.醫(yī)療領域:超導磁共振,、直線加速器、CT,、低磁場核磁共振,、X光機、微波治療機,、醫(yī)用冷帽,、降溫毯等。

6.對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載,、印刷機,、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置,、離子鍍裝置,、蝕刻裝置、單晶片處理裝置,、切片機、包裝機,、顯影劑的溫度管理,、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等,。

主要用途:

1,、   對旋轉蒸發(fā)儀、光化學反應儀光源部分進行低溫冷卻

2,、   對雙層玻璃反應釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制

3,、   對分光光度計的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

4、   對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制

5,、   對激光加工機的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

6,、   對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制

7、   對電子顯微鏡的電源,、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制

8,、   對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

9、   對電泳儀,、粘度計,、醫(yī)用冷帽、降溫毯進行低溫冷卻和溫度控制

10,、對電鏡,、分子泵、離子泵、擴散泵,、微波治療機進行低溫冷卻和溫度控制

主要性能:

1,、密閉型循環(huán):冷卻盤管、保溫用套管等密閉回路的循環(huán)裝置,。

2,、節(jié)省空間:設計緊湊、有桌面臺式型,、有受實驗臺高度限制的立式型,。

3、水冷式冷凍機:配備水冷式冷凍機,,因為不采用風扇排熱,,對環(huán)境影響小。適合在沒有空調,、換氣設備的室內使用,,也適合在無塵室使用。制冷系統(tǒng)具有延時,、過熱,、過電流多種保護裝置。均為進口原裝高品質器件,,保證可靠性和使用壽命,。

4、配備進口高壓泵:配管尺寸較長,,可平穩(wěn)的進行長距離循環(huán),、冷卻或恒溫機外實驗容器或建立第二恒溫場。

5,、高密度耐腐蝕材料:可循環(huán)純水的循環(huán)泵,、冷卻盤管、吐出口,、回流口的關鍵接口都采用不銹鋼(SUS304)制造,。

6、循環(huán)介質類型:硅油,、水,、鹽水、純酒精等實驗室常用循環(huán)介質,。

7,、微電腦控制:配置微電腦,能夠進行高精度的控制,,具備各種安全性能;所有操作均在微機智能控制儀上按動觸摸軟鍵完成,,操作簡單、直觀。

8,、P.I.D.控制:極力排除影響溫度調節(jié)精度的外部因素,,減小誤差。

9,、室外設置型:裝置可以設置在室外,,適合工廠、研究所不能設置在室內的情況使用,。

10,、節(jié)能:配備進口變頻壓縮機,根據(jù)循環(huán)負荷量和冷凍機的電機功率做變頻調節(jié),。

 

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