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賽默飛X光電子能譜儀是一種怎樣的分析技術(shù),?

閱讀:174      發(fā)布時(shí)間:2023-3-14
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   賽默飛X光電子能譜儀利用X射線激發(fā)樣品表面元素的內(nèi)層能級(jí)電子信號(hào),,再用電子能譜儀檢測(cè)光電子的動(dòng)能及強(qiáng)度,進(jìn)而確定元素的種類及價(jià)態(tài)等信息,。主要用于研究材料極表面的元素及元素不同價(jià)態(tài)組成,。
 
  賽默飛X光電子能譜儀是電子材料與元器件顯微分析中的一種先進(jìn)分析技術(shù),而且是常常配合使用的分析技術(shù),。
 
  由于它可以更準(zhǔn)確地測(cè)量原子的內(nèi)層電子束縛能及其化學(xué)位移,,所以它不但為化學(xué)研究提供分子結(jié)構(gòu)和原子價(jià)態(tài)方面的信息,還能為電子材料研究提供各種化合物的元素組成和含量,、化學(xué)狀態(tài),、分子結(jié)構(gòu)、化學(xué)鍵方面的信息,。
 
  它在分析電子材料時(shí),,不但可提供總體方面的化學(xué)信息,還能給出表面,、微小區(qū)域和深度分布方面的信息,。另外,因?yàn)槿肷涞綐悠繁砻娴腦射線束是一種光子束,,所以對(duì)樣品的破壞性非常小,。
 
  賽默飛X光電子能譜儀的應(yīng)用范圍:
  光電子能譜是研究材料表面和界面電子及原子結(jié)構(gòu)的重要手段之一,可提供物質(zhì)表面幾個(gè)原子層的元素定性,、定量信息和化學(xué)狀態(tài)信息,;可對(duì)非均相覆蓋層(如薄膜)進(jìn)行深度分布分析,了解元素隨深度分布的情況,;可對(duì)元素及其化學(xué)態(tài)進(jìn)行成像,,給出不同化學(xué)態(tài)的不同元素在表面的分布圖像;還可利用UPS(紫外光電子能譜)研究固體樣品的價(jià)電子和能帶結(jié)構(gòu)及功函數(shù),。廣泛應(yīng)用于固體物理學(xué),、基礎(chǔ)化學(xué)、催化科學(xué),、腐蝕科學(xué),、材料科學(xué)、微電子技術(shù)及薄膜研究,。

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