產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保 |
---|---|---|---|
范圍 | 0.3?~3?m/s |
通過(guò)等離子體方法,,對(duì)陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除,。設(shè)備為單室真空系統(tǒng),,主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng),、電氣系統(tǒng),、射頻電源系統(tǒng)
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參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間:2023-07-31 11:26:13瀏覽次數(shù):535
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離子去膠機(jī) 型號(hào):PR-3
離子去膠機(jī)
通過(guò)等離子體方法,對(duì)陶瓷片,、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除,。設(shè)備為單室真空系統(tǒng),主要由真空系統(tǒng),、氣路系統(tǒng),、電氣系統(tǒng),、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng),、報(bào)警系統(tǒng)等部分組成。
射頻電源采用RF500W電源控制,。
氣路系統(tǒng)采用兩臺(tái)浮子流量計(jì)控制氣體進(jìn)氣,。
腔室結(jié)構(gòu):臥式、純石英
真空室規(guī)格:F210′300mm
限真空:1Pa(環(huán)境濕度≤55%)
真空系統(tǒng):機(jī)械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量:4英寸 25片/爐
去膠速率: ~500A/min
去膠不均勻性:≤±5% (φ4吋范圍內(nèi))
操作方式:手動(dòng)方式
用戶可選配全自動(dòng)控制方式
通過(guò)等離子體方法,,對(duì)陶瓷片,、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng),,主要由真空系統(tǒng),、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng),、射頻電源系統(tǒng),、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng),、報(bào)警系統(tǒng)等部分組成,。
射頻電源采用RF500W電源控制。
氣路系統(tǒng)采用兩臺(tái)浮子流量計(jì)控制氣體進(jìn)氣,。
腔室結(jié)構(gòu):臥式,、純石英
真空室規(guī)格:F210′300mm
限真空:1Pa(環(huán)境濕度≤55%)
真空系統(tǒng):機(jī)械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量:4英寸 25片/爐
去膠速率: ~500A/min
去膠不均勻性:≤±5% (φ4吋范圍內(nèi))
操作方式:手動(dòng)方式
用戶可選配全自動(dòng)控制方式