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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

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更新時間:2024/11/26 13:22:49瀏覽次數(shù):2020

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產(chǎn)品簡介

測定材料 金屬硬度計 價格區(qū)間 面議
儀器類型 臺式 應用領域 化工
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導電薄膜、合金薄膜,、半導體薄膜,、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜,、光學薄膜,、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等,。

詳細介紹

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

1、引言

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是新研制開發(fā)的鍍膜設備,,可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導電薄膜、合金薄膜,、半導體薄膜,、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,。與同類設備相比,,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,。

配置兩個靶槍,,一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個為配套直流電源用于導電類材料的濺射鍍膜;可制備多種薄膜,,應用廣泛;體積小,,操作簡便。

2,、主要技術指標

電源:220V 50Hz

大功率:<560W(不含真空泵)

極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設備使用可達到E-5mbar)

工作溫度:RT-500℃,,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)

靶槍數(shù)量:2個(可選配其他數(shù)量)

靶槍冷卻方式:水冷

靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)

直流濺射功率:500W(可選)

射頻濺射功率:300W/500W(可選)

載樣臺:Ø140mm

載樣臺轉速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

保護氣體:Ar,、N2等惰性氣體

進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,,每個流量為100SCCM

尺寸:500mm×560mm×660mm

整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm

重量:160kg

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

我公司專業(yè)生產(chǎn)銷售:洛式硬度計,維式硬度計,,布氏硬度計,,顯微維氏硬度計,便攜式硬度計,,磁力式洛式硬度計,,里氏硬度計,超聲波硬度計,,金相切割機,,全自動金相試樣切割機,金相磨拋機,,金相預磨機,,金相拋光機,,全自動金相試樣磨拋機,,手動金相試樣鑲嵌機,全自動金相鑲嵌機,。金相拋光劑,,金相拋光粉,金相砂紙,,金相拋光布,,金相切割片,冷鑲嵌樹脂,金相鑲嵌粉,,導電鑲嵌粉,,透明鑲嵌粉,倒置金相顯微鏡,,正置金相顯微鏡,,進口金相顯微鏡,體視顯微鏡,,視頻顯微鏡,,生物顯微鏡,熒光顯微鏡,,手動影像測量儀,,全自動影像測量儀,一鍵閃測儀,,測量投影儀,。粗糙度儀,輪廓儀,,圓柱度儀,。

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