速分散均質(zhì)機/均質(zhì)器    型號；HAD-FJ200-T

本速分散均質(zhì)機體積小,、噪音低,、率大,、運行安可靠。運行狀態(tài)控制采用電子無定時調(diào)速,。分散均質(zhì)作頭采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼,，耐腐蝕性能好，并可視容器大小更換不同直徑的分散均質(zhì)作頭,。分散均質(zhì)作在電機速驅(qū)動下,，產(chǎn)生強大的液體剪切和劇烈的頻機械效應(yīng)，促使實驗體物料在巨大的離心力作用下,，承受每分鐘達次的剪切,、撕裂和混合，從而達到分散,、均質(zhì)的效果,。使用電源 220V  50Hz
系列產(chǎn)品型號 FJ200-T
輸出率（W） 200
輸入率（W） 340
轉(zhuǎn)速范圍（r/min） 300~21000
調(diào)速方式 無
作方式 斷續(xù)
作頭配置（mm） Ф12  Ф18
定時范圍（s） 5~300
處理量（L) 0.02~0.8 

2.懸浮物測試儀/水質(zhì)在線懸浮物分析儀/在線懸浮物測定儀 型號:HAD-MLSS4210

應(yīng)用
l 海洋，地面,，自來水,，市政廢水，廢水處理工藝等
l 化工,，醫(yī)藥,，食品加工，造紙工業(yè)各種工業(yè)過程配套,，材質(zhì)可特殊訂做,。
功能
l 報警限值可以設(shè)定，聲光報開關(guān)信號輸出0/5V信號,驅(qū)動<30mA;和光電隔離的晶閘管觸發(fā)電路（額定電壓400V,電流1A）
l 現(xiàn)場配2×16 LCD液晶顯示數(shù)據(jù),，配1個扒插式4x5鍵盤;
l 自動溫度軟件補償(ATC)
l 標(biāo)定功能允許用戶利用配制的全濃度范圍標(biāo)樣建立多至4個點,也允許純水單點調(diào)零,，2點標(biāo)準(zhǔn)樣品標(biāo)定（DKA,在線性量程內(nèi)）。
l 輸出1路0-2.5/5V,0/4-20mA線性標(biāo)準(zhǔn)信號,?？芍苯佑糜陲@示器，記錄儀,，或做PID閉環(huán)控制,。功能可設(shè)計。
性能
l 電路測試精度0.05%FS
l 外接電源DC 12-24V, 功率:<1.40 W, 基本測試功耗<500mW.
l 防水設(shè)計: NEMA 4x,。

測量范圍: R1000:   0-2000mg/L;

準(zhǔn)確度: ±2-5% FS;

重復(fù)精度: <±1%R;

最高分辨率:0.1mg/L;

使用溫度: 0-50℃;壓力:<10 kgf/cm2;

3.冷卻水循環(huán)機/循環(huán)冷卻水機型號:HAD-X300

HAD系列冷卻循環(huán)裝置采用非啟停制冷技術(shù),，其設(shè)計和制造能夠提供行業(yè)的技術(shù)指標(biāo)和可靠性，是高精度和高穩(wěn)定的冷卻設(shè)備,。 HAD系列冷卻循環(huán)裝置是全封閉制冷系統(tǒng),，結(jié)合PID控制，制冷快,，溫度穩(wěn)定,，對一些要求精密恒溫冷卻的設(shè)備,。 HAD系列冷卻循環(huán)裝置應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，應(yīng)用于各類實驗室和生產(chǎn)領(lǐng)域,，滿足不同的冷卻恒溫要求,，可以配套量熱儀、折光儀,、密度檢測儀,、電泳槽、激光器,、透射掃描電鏡,、真空鍍膜機等。

型號:HAD-X300

溫度范圍:5-35

控溫精度:正負0.1

體式:一體式

制冷量(20度時):300W

循環(huán)泵最大壓力bar:0.8

循環(huán)泵最大流量L/MIN:15

水箱容積:4L

儀器重量:30kg

外型尺寸:W*D*H 230×475×475

4.恒溫磁力攪拌器/磁力攪拌儀 型號:HAH01-3

HAH01-3恒溫磁力攪拌器 特點

特　　點：無刷直流電機驅(qū)動,，特強磁力,，適用于高粘度大容量液體攪拌， 恒溫型,，配電接點水銀溫度計可自動控溫,，加熱功率無級可調(diào)，電壓表顯示加熱電壓

HAH01-3恒溫磁力攪拌器主要技術(shù)參數(shù)

電　　源：AC220V±10% 50Hz
攪拌轉(zhuǎn)速：100～1800 r/min
最大攪拌容量：10000ml
電機轉(zhuǎn)矩：25mN·m
加熱功率：800W內(nèi)可調(diào)
加 熱 盤：￠175mm
控溫范圍：室溫～250℃
控溫精度：±1℃
外形尺寸：280×175×145（mm）
注：電接點水銀溫度計用戶自備

5.恒溫型 浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 鍍膜機 型號:HAD-100H

一. 產(chǎn)品簡介
    浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計,，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜,。提拉速度、提拉高度,、浸漬時間,、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào),、精密控制,。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀,、塊狀,、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定,、工作時液面無振動,，可極大提高實驗精度與實驗效率。
    適用于硅片,、玻璃,、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝,。應(yīng)用于科學(xué)研究,、產(chǎn)品生產(chǎn)。

二. 產(chǎn)品特點
1. 采用自主設(shè)計的優(yōu)良的精密傳動裝置,；
2. 關(guān)鍵零部件來自中國臺灣及德國進口,，確保運行精度及穩(wěn)定性；
3. 多參數(shù)全自動控制,；提拉速度連續(xù)可調(diào),；
4. 鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫,，,。
5. 運行時，各項參數(shù)實時顯示,，更直觀了解鍍膜進程,；
6. 高、低速均運行平穩(wěn),，鍍膜時液面無振動,，使成膜更均勻；
7. 整個鍍膜過程在恒溫溫度場內(nèi)進行,，可精密控溫,，溫度均勻性好。
8. 特殊設(shè)計的平口型夾具,，兩面均勻夾持樣片,，不會夾壞樣片；（單點螺絲頂緊樣片的夾持方式容易夾壞樣片）

三. 技術(shù)參數(shù)
1. 提拉速度范圍：1～5000 μm/s,，最小分辨率1μm/s,；
2. 適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm,，厚度MAX 10mm,；
3. 浸漬時間：1～1200 s，最小分辨率1s,；
4. 鍍膜次數(shù)：1～20次,，最少1次；
5. 每次鍍膜間隔時間：1～3600 s,，最小分辨率1s,；
6. 恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
7. 溫度波動度≤±0.2℃,；
8. 恒溫場內(nèi)尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）,；
9. 電源：220V/50Hz

以上參數(shù)資料與圖片相對應(yīng)