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原位光電分析測試系統(tǒng)

閱讀:2900      發(fā)布時間:2018-11-10
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      原位光電分析測試系統(tǒng)以掃描電子顯微鏡為基礎(chǔ),,集成陰極熒光譜,、微納機(jī)械臂,、外部電學(xué)測量等功能,構(gòu)建了一個直觀,、實時和原位地研究先進(jìn)功能材料和器件物理性能的系統(tǒng),不僅可以實現(xiàn)對納米材料或器件的原位發(fā)光的檢測和電學(xué)物性的測試,、納米尺度的操作和控制,、以及特定納米光電子器件的構(gòu)筑,還可以實現(xiàn)實時原位研究微納器件材料光電轉(zhuǎn)換過程的動態(tài)信息,。該系統(tǒng)主要由7個功能模塊組成,,其型號及生產(chǎn)廠家如下:
(1)場發(fā)射掃描電子顯微鏡,,;
(2)陰極熒光光譜儀,,;
(3)MM3A-EM電鏡微納操縱儀,,德國Kleindiek Nanotechnik,;
(4)半導(dǎo)體特性分析儀, 脈沖碼型發(fā)生器, 示波器,;
(5)s納米圖形發(fā)生器,;
(6)電鏡冷凍臺,,
(7)激光器
二、 主要參數(shù)
(1)場發(fā)射掃描電子顯微鏡
具有高真空功能,、低真空功能和環(huán)境真空功能(需要更換部件),,大束流200n A并且連續(xù)可調(diào),典型換樣時間:高真空模式≤150秒,;低真空及環(huán)境真空模式≤270秒,。高真空30kV二次電子像分辨率:30kV時1.0 nm。
(2)陰極熒光光譜儀
光譜范圍160nm-1700nm,;光譜分辨率0.07nm (1200gr/mm刻線, 400nm激發(fā))
(3)電鏡微納操縱儀
納米和微米級移動和厘米級的工作范圍,,XY大不小于50mm, Z大12mm,XY大速率10mm/s, z軸大速率2 mm/s,精度指標(biāo)XY≤5nm, Z≤0.5nm, 漂移量<1nm /min,。
(4)半導(dǎo)體特性分析儀/脈沖碼型發(fā)生器/示波器
直流測試:4個SMU,,電壓測量范圍±100V, 電壓測量小分辨率0.5μV,電流測量范圍±100mA,,電流測量小分辨率0.1fA,;電容CV測試:頻率范圍1KHz~5MHz,頻率精度±0.008%,;脈沖測量小脈寬10ns,,波形電平100 mV 到20V。
(5)納米圖形發(fā)生器
具有DXF/DWG讀/寫轉(zhuǎn)換- GDSII/CIF圖形導(dǎo)入功能,,同步掃描頻率為5 MHz,兼容6 MHz,,電子束停留時間小增量(定時精度)為0.5納秒, 矢量掃描刻寫方式,。
(6)電鏡冷凍臺
冷臺溫度可控范圍低至-190℃,溫度穩(wěn)定性優(yōu)于±0.5°C,,冷阱溫度為-190℃,。
(7)激光器
工作頻率10Hz,能量穩(wěn)定性< ±10%,,指向穩(wěn)定性<±100微弧度,,帶光學(xué)參量控制器(opo),opo控制輸出在192-2750nm波長范圍內(nèi),。

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