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立式真空爐的工作原理
閱讀：2053 發(fā)布時(shí)間：2019-11-6
立式真空爐滿足于不同工藝實(shí)驗(yàn)而特殊制造,，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié),、玻璃的精密退火與微晶化,、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備,、粉末冶金,、納米材料的真空燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,，是科研單位,、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備,。
立式真空爐的工作原理：
立式真空爐熱處理是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù),，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于一個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空,、中等真空,、高真空和超高真空，真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理,。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的,，真空熱處理可以實(shí)現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高,。與常規(guī)熱處理相比,，真空熱處理的同時(shí)，可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化,、無(wú)脫碳,、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑,，并有脫脂除氣等作用,，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。