Alicat Conductor

改善濺射鍍膜的真空控制

薄膜涂層的進(jìn)步對我們?nèi)粘Ｉ畹膸缀跛蓄I(lǐng)域都產(chǎn)生了深遠(yuǎn)的影響,，雖然很多肉眼不可見，只是微觀可測,。

薄膜表面功能化涂層的實施目的一般有：一是賦予薄膜新的功能,；二是對薄膜進(jìn)行保護(hù)提升耐用率；三是對薄膜起到裝飾作用,。薄膜的制備方法很多,，但所有方法都集中于沉積從幾個原子到幾個微米的材料層。 

產(chǎn)生薄膜的常用的方法之一是濺射鍍膜,，濺射鍍膜是指在真空室中,，利用荷能粒子轟擊鍍料表面，使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術(shù),。

此篇文章我們將帶您了解有關(guān)薄膜涂層技術(shù),，以及真空如何使該過程更有效，更準(zhǔn)確和更可靠,。

 1,、防反射/高反射涂層

 2,、透明導(dǎo)電氧化物涂層

透明導(dǎo)電氧化物(TCO)涂層允許涂覆幾乎不可見的導(dǎo)電涂層。應(yīng)用多的集中TCO材料是：氧化銦錫(ITO,，In2O3：Sn),，摻鋁的氧化鋅(AZO，ZnO：Al),，摻氟的氧化錫(FTO,，SnO2：F)，摻銻的氧化錫(ATO,，Sn2O：Sb)等,。

TCO的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣，主要用于液晶顯示器的透明電極,、觸摸屏,、柔性O(shè)LED屏幕、光波導(dǎo)元器件以及薄膜太陽能電池等領(lǐng)域,。

有些導(dǎo)電涂層還啟用了一些*的傳感器和應(yīng)變監(jiān)測技術(shù),。

 3、類金剛石碳鍍膜(DLC)

隨著像Duralar技術(shù)之類的公司開發(fā)專門設(shè)計用于制造DLC涂層的涂層工具,，這些涂層之所以如此命名,，是因為它們提供了與鉆石相同的許多特性：耐磨性(機械或化學(xué))，硬度和潤滑性,。這些高性能涂料正逐漸用于許多以前需要大量潤滑劑(通?；诨剂?以防止磨損的機械過程中。

汽車部件和切削工具通常涂有DLC涂層,。DLC與合成鉆石非常相似,，通常使用化學(xué)氣相沉積(CVD)進(jìn)行涂覆。CVD與上述提到的其他薄膜更常用的濺射涂層不同,。 

DLC還用于微電子,，醫(yī)療設(shè)備，顯示器和傳感器,。

經(jīng)許可使用的圖片

Duralar Centurion系統(tǒng)用于DLC的生產(chǎn)性,，高成本效益應(yīng)用。

 4,、生物相容性涂層

濺射在產(chǎn)生生物相容性涂層中也很有用,。醫(yī)療設(shè)備制造商面臨的挑戰(zhàn)之一是找到具有所需特性(通常具有耐化學(xué),，生物和機械磨損性能)且不刺激免疫反應(yīng)(通常稱為“排斥”)的材料。由于它們的生物反應(yīng)性,，許多通常很適合的材料無法使用,。在許多情況下，可以屏蔽刺激免疫反應(yīng)的材料,，并使其與適當(dāng)?shù)挠操|(zhì)涂層具有生物相容性,， 典型的涂層包括氮化鈦(TiN)及其變體。

綜上所述,，有許多用于沉積薄膜層的方法,，而很受歡迎的工藝之一是濺射鍍膜(技術(shù)上是物理氣相沉積的一種形式)。濺射鍍膜的工作原理是在極低的壓力(真空條件)讓具有足夠高能量的粒子轟擊固體靶表面使靶中的原子發(fā)射出來,，沉積到基片上成膜,。

濺射鍍膜有兩類：離子束濺射和氣體放電濺射,我們今天說說離子束濺射(IBS)吧。

在離子束濺射(IBS)中,，在真空室中,，利用離子束轟擊靶表面，使濺射出的粒子在基片表面成膜,。濺射技術(shù)通常需要先將腔室抽空，然后添加惰性氣體以產(chǎn)生等離子體(通常是氬氣),。在反應(yīng)濺射中,，添加其他氣體(通常是氧氣或氮氣)以產(chǎn)生沉積在基片表面的反應(yīng)產(chǎn)物。然后,，要創(chuàng)建合適的腔室條件,，需要協(xié)調(diào)真空度，氬氣(或類似氣體)輸入以及潛在的反應(yīng)氣體輸入,。

真空控制在濺射鍍膜系統(tǒng)中的作用

濺射鍍膜系統(tǒng)的性能取決于許多因素,，其中工藝氣體壓力和系統(tǒng)整體壓力是重要的因素，高精度,、低延遲,、成本效益和快速控制通常是操作中的關(guān)鍵因素。Alicat艾里卡特層流差壓工作原理可以確?？焖俸蜏?zhǔn)確地控制輸入氣體,。Alicat艾里卡特質(zhì)量流量控制器響應(yīng)時間快達(dá)30ms，并且可以將多個參數(shù)(體積,、質(zhì)量流量,、壓力和溫度)以高達(dá)1000次/秒的頻率反饋至系統(tǒng)。大多數(shù)Alicat艾里卡特質(zhì)量流量控制器的準(zhǔn)確度是讀數(shù)0.6％,，可確保傳輸準(zhǔn)確的氣體量,。Alicat艾里卡特質(zhì)量流量控制器內(nèi)置多個參數(shù)供輕松切換,，可以快速、輕松地控制氣體(尤其是用于產(chǎn)生等離子體的氬氣)的流量,。

控制濺射室內(nèi)的真空度也是濺射鍍膜工藝的重要組成部分,。Alicat Conductor系列新產(chǎn)品可支持同時測量和控制室內(nèi)的真空度，并集成了真空計,、真空控制器和節(jié)流閥的功能,。Alicat Conductor系列可確保完成的真空度，使濺射室具備薄膜沉積的條件,，隨著沉積過程的開始,，其他氣體的引入以及溫度的變化會影響反應(yīng)室條件和后續(xù)的過程控制。在整個過程中,，Alicat Conductor可確保濺射室內(nèi)的壓力水平與您對過程控制的要求保持一致,。

上圖為簡化的真空鍍膜系統(tǒng)，Alicat Conductor替換多個組件, 從而提高了系統(tǒng)的響應(yīng)速度并提高了效率

Alicat Conductor™系列集成真空控制器旨在快速控制泵送真空過程的壓力,，可集成到您的系統(tǒng)中,，替換多個組件。即使在低至10mTorr的低量程下,，我們的傳感器也可以高精度工作,。

Alicat Conductor系列使用的數(shù)字和模擬接口(或工業(yè)協(xié)議)，與真空控制系統(tǒng)無縫對接,，這彌合了質(zhì)量流量控制系統(tǒng)和真空控制系統(tǒng)之間通常存在的通訊差距,，從而可以從公共界面輕松訪問過程控制。Alicat的數(shù)字式顯示屏,，可讓您一目了然地了解濺射室狀態(tài),。

立即與我們聯(lián)系，我們可按照您的要求定制質(zhì)量流量控制器和真空控制器來幫助您提高真空鍍膜工藝的準(zhǔn)確度和效率,。