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98%光利用率鍍介質(zhì)鏡純相位液晶空間光調(diào)制器

美國Meadowlark Optics公司專注液晶空間光調(diào)制器領(lǐng)域40多年，是液晶,、偏振領(lǐng)域的科研儀器研發(fā)和制造公司?，F(xiàn)在HSP1K和E19×12系列空間光調(diào)制器的基礎(chǔ)上，推出鍍介質(zhì)鏡型的高效率,、高刷新速度,、高損傷閾值、低相位波動的純相位液晶空間光調(diào)制器,。已經(jīng)成為wan全滿足雙光子/三光子顯微成像,、光鑷、自適應(yīng)光學(xué),、湍流模擬,、光計(jì)算、光遺傳學(xué)和散射介質(zhì)成像等領(lǐng)域應(yīng)用需求的科研利器。

Meadowlark Optics公司推出了鍍介質(zhì)鏡型純相位液晶空間光調(diào)制器,，光利用率率可達(dá)98%,，波長可以覆蓋400-1700nm，1920x1200 & 1024x1024分辨率可選,，損傷閾值可達(dá)200W/cm2以上,，12bits控制精度，98%光利用率鍍介質(zhì)鏡純相位液晶空間光調(diào)制器性價(jià)比高,！

特點(diǎn)1：填充率達(dá)到100%,，光利用率92%-98%，200W/cm2高損傷閾值,；

鍍介質(zhì)鏡型號的SLM填充了像素間的間隙,，使液晶空間光調(diào)制器的面積填充率達(dá)到100%，從而降低衍射效應(yīng)和因像素間間隙引起的能量損失,。標(biāo)準(zhǔn)型號采用鋁材料做底板反射材料,，材料的吸收特性會導(dǎo)致能量損失，在800nm附近尤為明顯,，這使得SLM的整體效率在該波段的整體效率只能到達(dá)70-80%,。而鍍介質(zhì)鏡型的SLM克服了這一缺點(diǎn)，可以在工作波段范圍內(nèi)輕松實(shí)現(xiàn)92%以上的零級衍射效率,，介質(zhì)鏡鍍膜中心波長處可達(dá)98%,。同時(shí)，這樣的改變降低了SLM對激光能量的吸收引起的熱效應(yīng),，讓設(shè)備可以達(dá)到更高的損傷閾值,，以滿足高功率脈沖激光調(diào)制和激光加工等應(yīng)用需求。

Meadowlark Optics公司產(chǎn)品型號命名規(guī)則：

中心波長1000nm（工作波段900-1100nm）的介質(zhì)鏡反射率曲線（參考）

特點(diǎn)2：液晶響應(yīng)速度 （<0.5ms）,，刷新速度高達(dá)2KHz,，高相位穩(wěn)定性；

UHSDM1K系列1024×1024分辨SLM具有令人難以置信的液晶響應(yīng)時(shí)間,，可以通過溫度調(diào)節(jié)和特殊的驅(qū)動方式來降低液晶的粘稠度,，提升液晶的響應(yīng)時(shí)間，可以＜0.5ms @532nm（0-2pi, 10-90%）,，液晶刷新速度高達(dá)2KHz,。

或通過提升液晶的粘稠度以提升液晶空間光調(diào)制器的相位穩(wěn)定性，這樣會損失一部分刷新速度,，但可以提供相位波動低至0.05%的高穩(wěn)定性,，以滿足光鑷和冷原子等應(yīng)用需求。

特點(diǎn)3：可自動進(jìn)行任意波長線性校準(zhǔn),，真8位灰度調(diào)制,，PCIE控制器,；

該型號SLM的控制軟件進(jìn)行了升級，可以自動進(jìn)行不同波長的波前畸變校準(zhǔn)及線性校準(zhǔn),，生成相應(yīng)的波前校準(zhǔn)文件（WFC）和線性校準(zhǔn)文件（LUT）,。

Meadowlark Optic公司所有型號的SLM都滿足真8bit灰度調(diào)制（即8位灰度相位圖的每個(gè)灰階都對應(yīng)一個(gè)可檢測的，不重復(fù)的相位）,。為滿足真8bit調(diào)制,，設(shè)備控制器將驅(qū)動電壓細(xì)分為更多的電壓級次（通常為12bit，即4096個(gè)細(xì)分電壓級次）,。對于特定波長,，選取其中256個(gè)電壓級生成特定波長下的0~2π映射的LUT，具有目前市面上可實(shí)現(xiàn)的Zui高線性度,。

為滿足高刷新速度帶來的大吞吐量的數(shù)據(jù)傳輸需求（每張1024乘1024分辨率的8位灰度圖約為1MB）,，設(shè)備采用定制的PCIE控制器和數(shù)據(jù)線。同時(shí)PCIE控制器配備一塊可以存儲758張全畫幅圖片的板載內(nèi)存,，可以允許客戶預(yù)加載圖片到控制器,，實(shí)現(xiàn)高速刷新圖像切換，同時(shí)降低了對上位機(jī)帶寬的要求,。

98%光利用率鍍介質(zhì)鏡 純相位液晶空間光調(diào)制器主要應(yīng)用領(lǐng)域：

雙光子/三光子顯微成像,、光遺傳學(xué)、自適應(yīng)光學(xué),、湍流模擬,、全息光鑷(HOT)、激光加工,、超分辨顯微成像,、散射或渾濁介質(zhì)中的成像,、飛秒激光脈沖整形,、光學(xué)加密、量子計(jì)算,、光通信等,。

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