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光電流成像光譜系統(tǒng)
  • 光電流成像光譜系統(tǒng)

貨物所在地:上海上海市

更新時(shí)間:2025-02-06 16:17:57

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用于材料表面光電流分布特性的激光共聚焦光電流成像光譜系統(tǒng)Photocurrent Mapping System,,帶低溫探針臺(tái)。

光電流成像光譜系統(tǒng)

    Nanobase的光電流成像系統(tǒng)XperRam Photocurrent Mapping system 利用了顯微成像掃描技術(shù),,對(duì)樣品表面做一個(gè)快速掃描,。產(chǎn)生的光電流信號(hào)通過(guò)探針引到電流源表,再顯示在軟件界面,,做成成像圖顯示樣品表面電流分布,。

      光電流成像光譜系統(tǒng)Photocurrent Mapping System 又稱(chēng)為掃描光電流顯微成像系統(tǒng),用來(lái)檢測(cè)材料光電流強(qiáng)度分布的設(shè)備,,主要用來(lái)測(cè)量光電材料的光電響應(yīng)信號(hào)和表征材料的光電特征,。XperRam Photocurrent Mapping system 光電流成像系統(tǒng)將光電材料對(duì)于光信號(hào)響應(yīng)的不均勻性以可視化和量化的方式顯示出來(lái)。該系統(tǒng)可以研究光電探測(cè)器的量子效率,,器件的電阻分布特征,,研究太陽(yáng)能電池光生電流的不均勻性,研究器件吸收和電荷生成的微區(qū)特性,,以及光電材料界面,,半導(dǎo)體結(jié)區(qū)的品質(zhì)分布等。

 

整個(gè)系統(tǒng)的個(gè)構(gòu)成如下圖,,包含光源(激光器或者連續(xù)光源),顯微鏡,,激光掃描振鏡,,數(shù)字源表,探針臺(tái)和計(jì)算機(jī)軟件等。激光通過(guò)掃描振鏡,,擴(kuò)束鏡,,經(jīng)過(guò)顯微鏡聚焦到樣品表面,激光激發(fā)產(chǎn)生光電效應(yīng)(電流),,電流信號(hào)通過(guò)探針引出至電流源表,,再讀出至電腦軟件,掃描時(shí),,振鏡是通過(guò)偏振光控制器控制,,激光的光斑再樣品的XY方向上掃描移動(dòng),軟件記錄每一個(gè)激光聚焦光斑的位置和其對(duì)應(yīng)的電流值,,在軟件的一側(cè),,同步描繪出光電流成像圖,顯示了樣品的電流分布,。

 

 

功能描述

l  光電流成像(Photocurrent Measurement and Imaging )

 

                          光電流系統(tǒng)探針臺(tái)                                                                 三星光電院定制的光電流系統(tǒng)

 

 

光電流成像圖和電流計(jì)數(shù)值

 

                      簡(jiǎn)易光電流平臺(tái)(Side plate)                   Positioner                      Holder                                    探針

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

Ø  超快掃描成像(大于1000譜/S)

Ø  超緊湊結(jié)構(gòu)(光電流掃描成像和顯微鏡一體式設(shè)計(jì))

Ø  成本低(客戶(hù)僅需要在原來(lái)的探針臺(tái)或者拉曼設(shè)備上做改造就可以,,不需要額外購(gòu)買(mǎi)平移臺(tái),這是振鏡掃描的優(yōu)勢(shì)所在)

Ø  可視化和人性化軟件(定制研發(fā)了電流源表輸出和成像掃描視覺(jué)窗口,,客戶(hù)在一個(gè)界面實(shí)現(xiàn)光電流數(shù)據(jù)和成像mapping的對(duì)比比較方便)

Ø  可擴(kuò)展增加其它波長(zhǎng)的激光器,,增加拉曼光譜,熒光光譜成像系統(tǒng)等

Ø  可增加高低溫恒溫器,,鎖相放大器,,斬波器等

 

基本參數(shù)

 

激光器(光源)

l  可配置1~3個(gè)激光器,窄線寬激光器用于拉曼光譜測(cè)試和光電流測(cè)試

l  波長(zhǎng)范圍: 400~1550nm (典型的為 VIS: 405nm/532nm/633nm,   NIR :1550nm)

l  可選配一個(gè)光纖接口用于接入外部激光器光源

l  可選配超連續(xù)譜白光激光器(400nm~2400nm)

顯微鏡

l  奧林巴斯顯微鏡:BX61 (正置)(可根據(jù)客戶(hù)要求選配)

l  反射式/透射式LED照明

l  物鏡:標(biāo)配(40X,, NA=0.75) 選配:多種倍率和超長(zhǎng)焦距物鏡

l  透過(guò)率:>60% (360nm~1000nm)

掃描模塊

l  掃描面積:200um×200um

l  掃描精度:   小于10nm

l  步進(jìn):<50nm

l  掃描速度:>1000 譜/秒

電流

l  測(cè)量范圍:1pA – 1A

l  準(zhǔn)確度: 0.04%

l  電流源表:Keithley 2400

探針臺(tái)

l  可根據(jù)客戶(hù)要求定制

其它

l  低溫恒溫器(2.2K)/高溫?zé)崤_(tái)(1500℃)

l  根據(jù)客戶(hù)要求定制探針臺(tái)

l  可選配斬波器,,前置放大器,鎖相放大器等提高系統(tǒng)靈敏度

  

探針臺(tái)參數(shù):

探針臺(tái)

6寸真空吸附卡盤(pán),,

光譜范圍

750px-1到150000px-1

XY方向移動(dòng)范圍

150 x 150mm, 分辨率5um FOV:200µm x 200µm@40X物鏡

Z方向移動(dòng)范圍

上/下10mm, 分辨率1um

探針頭

金,,鎢

高精度定位器

PH-C15, 10fA leakage current 4SET


 

 

 

 

 

 

 

 

應(yīng)用領(lǐng)域

石墨烯,二維材料,,半導(dǎo)體工業(yè),,結(jié)晶度分析,太陽(yáng)能電池,,儲(chǔ)能材料,,探測(cè)器光電性能檢測(cè),晶圓體分析,,探測(cè)器檢測(cè),,器件吸收和電荷生成的微區(qū)特性。

 

 

相關(guān)文獻(xiàn)

  • 石墨烯通過(guò)嵌段共聚物的納米化實(shí)現(xiàn)了等離子體輔助設(shè)計(jì)的多共振光檢測(cè)


 

 










  • Large Work Function Modulation of Monolayer MoS2 by Ambient Gases

 

 

  • 石墨烯的光電流成像檢測(cè)

 

  • 石墨烯的離子-凝膠介質(zhì)調(diào)制石墨烯的Dirac點(diǎn)電壓及其應(yīng)用

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