首頁(yè) >> 供求商機(jī)
貨物所在地：上海上海市
更新時(shí)間：2025-02-24 13:43:38
瀏覽次數(shù)：948
在線詢價(jià)收藏產(chǎn)品( 聯(lián)系我們,，請(qǐng)說(shuō)明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,，謝謝?。?/p>
DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)
DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)無(wú)需制造掩膜,，采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案,。無(wú)掩膜光刻機(jī)可以讀取任何CAD數(shù)據(jù),，除此之外DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)使用365nmLED光源,，降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達(dá)1mm´0.6mm,，曝光時(shí)間僅需1s,。結(jié)合電動(dòng)移動(dòng)平臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)曝光拼接,，分辨率可達(dá)到3mm,。可通過(guò)公司編寫的軟件完成詳細(xì)設(shè)定,，使操作簡(jiǎn)潔方便,。
DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)
與傳統(tǒng)的光刻機(jī)不同，AU-PALET光刻機(jī)采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術(shù),，無(wú)需制造掩膜,。大大降低了時(shí)間和成本。無(wú)掩膜光刻機(jī)可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件,，直接進(jìn)行光刻,。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù),，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等,。
AU-PALET DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)采用短波段的LED燈為光源，相對(duì)于其它的光源,，擁有更高的穩(wěn)定性和更長(zhǎng)的壽命,，降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無(wú)掩膜光刻機(jī)為面曝光,，采用10倍的物鏡,，一次曝光面積可達(dá)到1mm´0.6mm，結(jié)合電動(dòng)平移臺(tái)可實(shí)現(xiàn)曝光拼接,，可達(dá)到更大的曝光面積,。可通過(guò)公司編寫的軟件完成簡(jiǎn)單操作和詳細(xì)設(shè)定,，操作簡(jiǎn)潔方便,。
設(shè)備有限公司推出的DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)有兩種。
① AU-PALET是一款快速光刻的無(wú)掩膜光刻機(jī),。本裝置采用375nm的LED光源，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,，并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長(zhǎng)的壽命,。采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm,，光刻分辨率達(dá)到5mm，并在10s 內(nèi)完成曝光,。
②
②AU-PALET_new 是AU-PALET的升級(jí)版本,，在光源上采用波長(zhǎng)更短的365nm的LED燈作為光源，采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm,，光刻分辨率達(dá)到3mm,，并在1s 內(nèi)完成曝光。
u 主要特點(diǎn)
u 主要應(yīng)用
磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成
傳感器,，半導(dǎo)體器件的制作
MEMS器件的試制,、
光電子，LED的試制
微流體器件的試制
掩膜版制作
細(xì)胞分離通道等的制作
光波導(dǎo)路的制作
u 主要參數(shù)
型號(hào) 參數(shù) | AU-PALET | AU-PALET_new |
光源 | 375nm LED | 365nm LED |
光刻分辨率（使用10倍物鏡） | 5 mm | 3 mm |
曝光面積（使用10倍物鏡） | 1mm´0.6mm | 1mm´0.6mm |
平臺(tái) | 手動(dòng)XYZq平臺(tái) | 手動(dòng)XYZq平臺(tái) |
構(gòu)成 | 裝置本身,，電腦,， 軟件 | 裝置本身，電腦,， 軟件 |
外形尺寸 | 420(W) x 300(D) x 600(H) | 300(W) x 450(D) x430(H) |
選項(xiàng) | 2x鏡頭,，電動(dòng)平臺(tái)等 | 2x鏡頭，電動(dòng)平臺(tái)等 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
9