Up to 98%光利用率——鍍介質(zhì)鏡型純相位高速高損傷閾值SLM,！
液晶空間光調(diào)制器（SLM）可以將數(shù)字化數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為適合各種應用的相干光學信息,，包括雙光子/三光子顯微成像、光鑷,、自適應光學,、湍流模擬、光計算,、光遺傳學和散射介質(zhì)成像等應用,。 這些應用需要能夠輕松快速地改變相干光束波前的調(diào)制器。 通過將液晶材料的電光性能特征與基于硅的數(shù)字電路相結(jié)合,，Meadowlark Optics 現(xiàn)在提供了高分辨率的 SLM,，這些 SLM 還具有物理緊湊性和高光學xiao率。
圖一：緊湊的HSP1K（1024×1024）系列和E19×12（1920×1200）系列SLM
Meadowlark Optics 的硅基液晶 (LCoS) 空間光調(diào)制器 (SLM) 專為純相位應用而設計,，并結(jié)合了具有高刷新率的模擬數(shù)據(jù)尋址,。 這種組合為用戶提供zui快的響應時間和高相位穩(wěn)定性。這些SLM 適用于需要高速、高衍射xiao率,、低相位紋波和高功率激光的應用。
特點一：高刷新速度
1024 x 1024分辨率的HSP1K系列SLM 速度極快,，全波調(diào)制的液晶響應時間范圍為 0.6 到 8 毫秒（取決于波長）,。 在我們的超高速型號UHSP1K系列中，客戶可以控制溫度設定點以找到開關(guān)速度和相位穩(wěn)定性之間的wan美平衡,，可以實現(xiàn)低至 0.5 毫秒以內(nèi)的響應時間（取決于波長）,。而多數(shù)其他液晶空間光調(diào)制器利用內(nèi)置的顯示背板和標準向列相液晶，這使得其響應時間限制在 >30 毫秒
圖二：UHSP1K系列SLM在532nm的液晶響應時間小于0.5ms
（10-90%的上升時間和下降時間）
特點二：高相位穩(wěn)定性
1024 x 1024分辨率的HSP1K系列SLM的硅背板進行了特殊設計,，以實現(xiàn)高速運行的同時zui大限度地提高相位穩(wěn)定性,。 工程師成功地在不影響相位穩(wěn)定性的情況下實現(xiàn)了高速。
與許多需要脈沖寬度,調(diào)制 (PWM) 方案的實現(xiàn)顯示 LCoS 背板不同,，Meadowlark 背板利用模擬尋址zui大限度地提高穩(wěn)定性,，相位波動可低至0.05%的超高穩(wěn)定性，以滿足光鑷和冷原子等應用需求,。
圖三：標準HSP1K系列SLM的相位波動測試結(jié)果
特點三：填充率達到100%,，零級衍射xiao率92%-98%
鍍介質(zhì)鏡型號的SLM填充了像素間的間隙，使液晶空間光調(diào)制器的面積填充率達到100%,，從而降低衍射效應和因像素間間隙引起的能量損失,。標準型號采用鋁材料做底板反射材料，材料的吸收特性會導致能量損失,，在800nm附近尤為明顯,，這使得SLM的整體xiao率在該波段的整體xiao率只能到達70-80%，而鍍介質(zhì)鏡型的SLM wan美克服了這一缺點,。
圖四：中心波長1000nm（工作波段900-1100nm）的介質(zhì)鏡反射率曲線（參考）
此外,，我們的 SLM 采用 Meadowlark Optics 專有液晶材料，可zui大限度地減少 SLM 中液晶層所需的厚度,。 通過zui大化像素間距與 LC 厚度的比率,，我們能夠提供像素間效應最小的 SLM，可以在工作波段范圍內(nèi)輕松實現(xiàn)92%以上的零級衍射xiao率,，zui高可達98%,。
圖五：鍍介質(zhì)鏡的SLM結(jié)構(gòu)示意圖
圖六：不同光柵常數(shù)的相位光柵的一級衍射xiao 率
Meadowlark Optics公司產(chǎn)品型號命名規(guī)則：
特點四：高損傷閾值26GW/cm2
鍍介質(zhì)鏡的設備具有高xiao率和低熱效應，提升了器件對高峰值功率激光的承受能力,，使器件可以用于高激光功率應用,。通過實際測試，設備在使用自帶水冷系統(tǒng)的情況下,，可以承受功率達到50W飛秒激光,，峰值功率密度達到26GW/cm2以上。
圖七：SLM在高激光功率下的相位響應
特點五：可自動進行任意波長線性校準，高位深PCIE控制器,；
該型號SLM的控制軟件進行了升級,，可以自動進行不同波長的波前畸變校準及線性校準，生成相應的波前校準文件（WFC）和線性校準文件（LUT）,。
Meadowlark Optic公司所有型號的SLM都使用高位深度控制器,，使用 8 位輸入/12 位輸出控制器使一個 SLM 能夠支持寬波長范圍而不會丟失線性相位電平，滿足真8bit灰度調(diào)制（即8位灰度相位圖的每個灰階都對應一個可檢測的,，不重復的相位）,。為滿足真8bit調(diào)制，設備控制器將驅(qū)動電壓細分為更多的電壓級次（通常為12bit,，即4096個細分電壓級次）,。對于特定波長，選取其中256個電壓級生成特定波長下的0~2π映射的LUT,，具有目前市面上可實現(xiàn)的Zui高線性度,。
為滿足高刷新速度帶來的大吞吐量的數(shù)據(jù)傳輸需求（每張1024乘1024分辨率的8位灰度圖約為1MB），設備采用定制的PCIE控制器和數(shù)據(jù)線,。同時PCIE控制器配備一塊可以存儲758張全畫幅圖片的板載內(nèi)存,，可以允許客戶預加載圖片到控制器，實現(xiàn)高速刷新圖像切換,，同時降低了對上位機帶寬的要求,。
主要應用領(lǐng)域：
雙光子/三光子顯微成像、光遺傳學,、自適應光學,、湍流模擬、全息光鑷(HOT),、激光加工,、超分辨顯微成像、散射或渾濁介質(zhì)中的成像,、飛秒激光脈沖整形,、光學加密、量子計算,、光通信,；
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