詳細(xì)介紹
一,、產(chǎn)品簡介
真空爐 微型非自耗電弧爐 DHM-300 主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。
適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備,。本設(shè)備采用桌
面式結(jié)構(gòu),,占地空間小。
真空爐 微型非自耗電弧爐 DHM-300 ,、產(chǎn)品特點(diǎn)
1,、采用高純氬氣保護(hù),zui高熔煉溫度可達(dá)3500℃
2,、真空腔體小,,可快速抽真空,快速充氬氣,,效率快及氬氣消耗非常少
3,、水冷銅電極可移動,可同時熔煉多個樣品
4,、水冷銅坩堝可方便拆卸
5,、采用真空計測量真空,壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力
6,、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛
7,、桌面式設(shè)計,占地空間小,,節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
三,、結(jié)構(gòu)簡介
由真空室、水冷電極,、水冷銅模,、氣路系統(tǒng)、坩堝升降系統(tǒng),、機(jī)殼和
熔煉電源組成,。
1、真空室:采用304機(jī)加工件和厚壁石英管復(fù)合結(jié)構(gòu),,既滿足高真空要求,,又便
于觀察實(shí)驗(yàn)情況。
2、水冷電極:頂部和底部放分別通有正負(fù)電極,,頂部為機(jī)械手結(jié)構(gòu),,可方便的
在幾個樣品之間移動,密封采用動密封裝置,,保證在移動過程中的真空度,。
3、水冷銅模:標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個12*φ25,;5個4*φ8樣品鍋,,另可根據(jù)客戶要
求定制;
4,、氣路系統(tǒng):由壓力傳感器,、電磁閥、壓力罐,、手動閥門和管路組成,,可方便
的實(shí)現(xiàn)手動充放氣,還可實(shí)現(xiàn)超壓排氣,,保護(hù)真空室安全,。
5、坩堝升降系統(tǒng):底部水冷銅??蓪?shí)現(xiàn)上下升降,,帶鎖緊裝置,可非常方便的
進(jìn)出料,。
6,、機(jī)殼:結(jié)合設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn),根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn),,設(shè)計出合理機(jī)殼,,外
表噴塑處理;
7,、熔煉電源:定制的電弧熔煉電源,,操作簡單,結(jié)構(gòu)小巧,;