詳細(xì)介紹
一,、產(chǎn)品簡介
真空爐 微型非自耗電弧爐 DHM-300 主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料,。
適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備,。本設(shè)備采用桌
面式結(jié)構(gòu),占地空間小,。
真空爐 微型非自耗電弧爐 DHM-300 、產(chǎn)品特點(diǎn)
1,、采用高純氬氣保護(hù),,zui高熔煉溫度可達(dá)3500℃
2、真空腔體小,,可快速抽真空,,快速充氬氣,效率快及氬氣消耗非常少
3,、水冷銅電極可移動,,可同時熔煉多個樣品
4、水冷銅坩堝可方便拆卸
5,、采用真空計測量真空,,壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力
6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛
7,、桌面式設(shè)計,,占地空間小,節(jié)約實驗空間和能源
三,、結(jié)構(gòu)簡介
由真空室,、水冷電極、水冷銅模,、氣路系統(tǒng),、坩堝升降系統(tǒng)、機(jī)殼和
熔煉電源組成,。
1,、真空室:采用304機(jī)加工件和厚壁石英管復(fù)合結(jié)構(gòu),既滿足高真空要求,,又便
于觀察實驗情況,。
2,、水冷電極:頂部和底部放分別通有正負(fù)電極,頂部為機(jī)械手結(jié)構(gòu),,可方便的
在幾個樣品之間移動,,密封采用動密封裝置,保證在移動過程中的真空度,。
3,、水冷銅模:標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個12*φ25;5個4*φ8樣品鍋,,另可根據(jù)客戶要
求定制,;
4、氣路系統(tǒng):由壓力傳感器,、電磁閥,、壓力罐、手動閥門和管路組成,,可方便
的實現(xiàn)手動充放氣,,還可實現(xiàn)超壓排氣,保護(hù)真空室安全,。
5,、坩堝升降系統(tǒng):底部水冷銅模可實現(xiàn)上下升降,,帶鎖緊裝置,,可非常方便的
進(jìn)出料。
6,、機(jī)殼:結(jié)合設(shè)備外觀經(jīng)驗,,根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn),設(shè)計出合理機(jī)殼,,外
表噴塑處理,;
7、熔煉電源:定制的電弧熔煉電源,,操作簡單,,結(jié)構(gòu)小巧;