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高潔凈真空的蒸鍍裝置

2024-12-3  閱讀(332)

真空蒸著裝置 VE-2013

小型TMP+RP的排氣系統(tǒng),,以蒸鍍銀等,。碳蒸鍍使用專用碳(SLC-30)進行蒸鍍的夾持式蒸鍍槍。

●可通過TMP + RP的排氣系統(tǒng)在清凈高真空中蒸鍍,。

●排氣操作是只有觸摸面板開關的ON / OFF的全自動,。

●蒸鍍源可選擇(低輻射熱)金屬蒸鍍電極或(替換芯專用)碳蒸鍍槍。

特征

★VE-2013是繼承VE-2030(本公司制造)概念的簡易型真空蒸鍍裝置,。

★TMP實現(xiàn)了機箱內(nèi)藏的緊湊機箱,。因為它是臺式機,所以它占地方

沒有(RP是地板放置),。

★采用小型TMP + RP排氣系統(tǒng),,提供低價格的高真空蒸鍍裝置。

★排氣操作僅通過觸摸面板開關的開啟/關閉進行全自動控制,。

★由于鎢籃子的使用可以蒸鍍金鋁鉻銀等,。

★碳素蒸鍍使用φ0.5mm的專用碳素蒸鍍鉗型。




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