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深圳市秋山貿(mào)易有限公司
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關(guān)于shinkuu磁控濺射設(shè)備的了解
2023-3-20 閱讀(1025)
關(guān)于shinkuu磁控濺射設(shè)備的了解
磁控濺射裝置應(yīng)用了在靶材背面使用強磁鐵促進陰極表面層電離的原理,，然后用磁場用離子轟擊靶材以釋放金屬分子。
在電子顯微鏡應(yīng)用中,，主要使用金和鉑等貴金屬,。 我們還有一系列型號，可以濺射其他金屬靶材,。
電子顯微鏡濺射,，主要顆粒尺寸比較
AU：黃金觀察區(qū)域：10，000~10，000倍 Au-PD：金鈀
觀察區(qū)域：10,，000~50,，000倍
非常適合
低倍率觀察和良好的對比度。
鉑：鉑金 觀察區(qū)域：50,，000~100,，000次 Pt-PD：鉑鈀
觀察區(qū)域：30，000~50,，000倍
它具有細
粒度,，通常用于高倍率觀察。
W：鎢
觀察放大倍數(shù)：10萬倍以上
粒徑與鋨相當,，使得在放大倍率區(qū)域觀察甚至高于鉑,。
相關(guān)產(chǎn)品介紹
只需使用計時器設(shè)置涂層時間，然后按開始按鈕,！
任何人都可以輕松進行濺射,。
| 裝置 | 特征 | 目標金屬 |
 | MSP-mini 超緊湊型濺射機 這是光學顯微鏡，銀光膜制作,，SEM和臺式SEM預(yù)處理的工具,。 |    |
 | MSP-1S 這是一個內(nèi)置泵的小型濺射裝置。 鉑靶的濺射也是可能的,，也可用于高達約50,，000次的高倍率觀察。 |   |
