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　　無氧烘箱通過合理設(shè)計和反復(fù)試驗,，使高溫下的溫度均勻性得到很好的控制,，大大提高了產(chǎn)品的可靠性和實用性。

　　1.工作間采用優(yōu)質(zhì)鋼板或不銹鋼板,，外部鋼板涂有粉末涂料,。

　　2、微電腦智能溫控器具有雙數(shù)字顯示,、定時,、功率抑制、溫度設(shè)定和測量自校正等功能,，溫度控制準(zhǔn)確可靠,。無氧烘箱主要用于半導(dǎo)體晶圓光刻膠涂覆前基板的預(yù)烘焙、涂覆后的軟烘焙,、曝光和顯影后硬膜的硬烘焙等,。基于TCP/IP協(xié)議的智能烤箱工藝管理系統(tǒng)用于與工廠系統(tǒng)連接,，實現(xiàn)自動烘焙和工藝管理,。易于控制，操作簡單,，靈活性強,。高精度控制，智能操作,，人性化結(jié)構(gòu),，大大提高生產(chǎn)效率!

　　無氧烘箱干燥工藝的功能

　　為了獲得平坦且均勻的光致抗蝕劑涂層，并確保光致抗抗蝕劑與芯片之間的良好粘合,，通常在粘合之前對芯片進行預(yù)處理,。預(yù)處理的一步通常是脫水和烘烤,，并在真空或干燥氮氣機中在150~200℃下烘烤。該工藝的目的是去除吸附在晶片表面上的水,。在該溫度下,，單分子水層保留在晶片表面上。

　　涂膠后,，晶片烘焙一次,，這稱為軟烘焙或預(yù)烘焙。工藝功能是去除膠水中的大部分溶劑,，并固定膠水的暴露特性,。通常，軟干燥時間越短或溫度越低,，膠在顯影劑中的溶解速率越高,，靈敏度越高，但對比度越低,。事實上,，軟烘焙過程需要通過優(yōu)化對比度以保持可接受的靈敏度來實驗確定。典型的軟烘烤溫度為90~100℃,，時間從加熱板的30秒到烤箱的30分鐘,。

　　在晶片被開發(fā)之后,，還需要在高溫下烘烤晶片,，以用于隨后的高能工藝，例如離子注入和等離子體蝕刻,，稱為后烘焙或硬烘焙,。該過程旨在：減少駐波效應(yīng);化學(xué)增強型光致抗蝕劑產(chǎn)生的酸被激發(fā)，與光致抗抗蝕劑上的保護基反應(yīng),，并去除該基團,，使其溶解在顯影劑中。

　　無氧烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片,、砷化鎵,、鈮酸鋰、玻璃等材料的涂膠前預(yù)處理烘焙,、涂膠后硬化烘焙,、顯影后高溫烘焙，強制空氣循環(huán),。雙風(fēng)道循環(huán)結(jié)構(gòu),，均勻的溫度場分布，智能溫度控制系統(tǒng),，更合適的溫度控制精度,。

　　清潔烤箱和無氧烘箱的操作要求：

　　1.氮氣口：操作前,，將氨氣連接到機器的氨氣口。連接前,，特別注意將N2壓力調(diào)整到適當(dāng)?shù)牧髁恐怠?.將烤好的食物放入盒子后,，關(guān)上門。門扣緊固后,，門安全開關(guān)工作,，機器可以順利啟動。3.烤箱背面的冷卻空氣出口應(yīng)連接到冷卻過程中溫度較高的排氣系統(tǒng),。連接管絕緣,，以防止人員燙傷或影響工作環(huán)境。清潔烤箱,。無氧烘箱的維護要求：

　　清理表面灰塵,，保持機器清潔衛(wèi)生;

　　檢查通風(fēng)口是否堵塞，清理灰塵,，檢查風(fēng)扇是否正常運行,，突然切斷電源。關(guān)閉加熱開關(guān),，防止電源接通時自動啟動,。維護人員檢查電流是否正常，檢查電路和開關(guān)是否正常,，特別注意差壓表的壓力值,，確認HEPA過濾器的過濾效果