當前位置:英國普拉勒科技有限公司-普拉勒(南京)儀器科技有限公司>>氫氣發(fā)生器>>氣相色譜/半導體/CVD,,MOCVD專用氫氣發(fā)生器>> Hydrogen-500(S)氣相色譜專用氫氣發(fā)生器
Hydrogen - 500(S)氣相色譜專用氫氣發(fā)生器是一款專為氣相色譜分析精心打造的設備,具備連續(xù)可靠產(chǎn)生高純度氫氣的能力,,氫氣純度可達 99.9999%以上,。
相較于昂貴且存在危險隱患的高壓氫氣鋼瓶,Hydrogen - 500(S)氫氣發(fā)生器優(yōu)勢顯著,。它僅需去離子水和供電,,就能持續(xù)產(chǎn)生氫氣,一次加水便可維持長達 15 天的穩(wěn)定工作,,成本極為低廉,。同時,其出色的安全性和簡便操作性,,使其成為替代高壓氫氣鋼瓶的理想之選,。
該氫氣發(fā)生器能夠根據(jù)實際需求適時適量地產(chǎn)生氫氣,精準調(diào)節(jié)氫氣產(chǎn)量,,有效避免了因過量儲存氫氣而帶來的安全風險,,在滿足實驗室對高純度氫氣需求的同時,保障了操作人員的安全,。
在技術與結構設計上,,Hydrogen - 500(S)氣相色譜專用氫氣發(fā)生器采用 SPE 固態(tài)電解質(zhì)技術,無需使用堿,,直接電解純水,,這種創(chuàng)新設計對色譜柱起到了有效的保護作用。設備配備分子篩耐用干燥劑,,可產(chǎn)出純度高達 99.9999%的氫氣,,有力確保了實驗結果的重現(xiàn)性。此外,,內(nèi)部采用英國 Peculiar 硅橡膠圈(含硫量低),,極大地提高了氣體質(zhì)量,保證了 GC 基線的平穩(wěn),,為氣相色譜分析提供了穩(wěn)定可靠的基礎,。
功能方面,該氫氣發(fā)生器集成了一體化微電腦控制的壓力和流量調(diào)節(jié)系統(tǒng),,實現(xiàn)對壓力和流量的精準調(diào)控。它還擁有自動水位控制功能,,在缺水狀態(tài)時會自動停機,,并且具備自動補水功能,。當設備水量低于 15%時,外置水箱會自動補水,,無需停機加水,,這一貼心設計有效保護了電解池,大大延長了設備的使用壽命,。
Hydrogen - 500(S)氣相色譜專用氫氣發(fā)生器憑借其高純度產(chǎn)氣,、低成本運行、安全簡便以及功能強大等諸多優(yōu)勢,,成為氣相色譜分析領域的得力助手,,為科研工作提供了可靠的氫氣供應保障。
金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器技術參數(shù):
Hydrogen-500(S)金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器在半導體制造領域扮演著至關重要的角色,,其廣泛應用主要體現(xiàn)在以下幾個方面:
1.清洗與退火:氫氣作為清洗氣體,,能夠有效去除半導體材料表面的污染物和氧化物,提供清潔的表面環(huán)境,。同時,,在退火過程中,氫氣有助于晶體的再結晶,,提升材料的質(zhì)量和性能,。
2.賦活處理:通過將水合氧化物轉化為電氧化物,提高雜質(zhì)離子濃度,,從而改善半導體器件的性能和穩(wěn)定性,。
3.硅取向和外延生長調(diào)控:精確控制氫氣的流量和溫度,可以實現(xiàn)硅晶片特定方向的優(yōu)先生長,,獲得所需的硅材料取向,,這對于半導體器件的制造至關重要。
4.清除氧污染:在特殊工藝中,,利用氫氣清除氧氣污染,,避免生成影響器件性能的氧化物,確保半導體產(chǎn)品的高質(zhì)量,。
5.CVD和MOCVD工藝:作為CVD(化學氣相沉積)和MOCVD(金屬有機化學氣相沉積)技術中的專用設備,,金剛石
MPCVD氫氣發(fā)生器能夠提供高純度、穩(wěn)定壓力的氫氣,,滿足這些先進制造工藝對氣體質(zhì)量的嚴格要求,。
6.其他領域應用:除了半導體制造,金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器還廣泛應用于太陽能電池,、化學反應,、燃料電池等多個領域,為這些領域提供穩(wěn)定可靠的氫氣供應,。