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Horiba直接注入式汽化器VC-1420
直接液體注入系統(tǒng)
在半導(dǎo)體測(cè)試工藝過(guò)程中控制氣體比例和濕度平衡相當(dāng)困難,,可以通過(guò)以下產(chǎn)品達(dá)到準(zhǔn)確的氣體平衡和氣體濕度:氣體 MFC(SEC-Z512MGX,、N112MGX、),、液體 MFM(LF-F20M-A),、汽化器(MV-2000)。
Horiba直接注入汽化器VC-1420能夠在無(wú)載氣的情況下快速汽化純水或其他液體源,,組建更緊湊的汽化系統(tǒng),。
HORIBA 可為您提供由 Horiba直接注入式汽化器VC-1420和您需要的所有其他組件組成的定制汽化系統(tǒng):
· 一種用于流量測(cè)量的液體質(zhì)量流量計(jì)
· 一種用于蒸氣流量測(cè)量的高溫質(zhì)量流量控制器
· 閥門、過(guò)濾器,、加熱器等
特征
· 尺寸緊湊
· 可安裝在各種位置
· 暢銷的 TEOS 汽化系統(tǒng)
· 結(jié)合 SEF 或 LF,,可實(shí)現(xiàn)數(shù)字控制
· 無(wú)需特殊鼓泡罐或汽化罐
· DeviceNetTM 型產(chǎn)品系列
· 符合 RoHS 標(biāo)準(zhǔn)
技術(shù)參數(shù)
外形尺寸圖
HORIBA 是高性能汽化系統(tǒng)的供應(yīng)商之一。HORIBA 液體源汽化器貫穿整個(gè)半導(dǎo)體制程,,可以安全有效地將液相化學(xué)品以氣相形態(tài)輸送至使用點(diǎn),。無(wú)論液態(tài)化學(xué)品是需要在真空下還是大氣壓下汽化,HORIBA 的汽化技術(shù)都能提供符合要求的汽化系統(tǒng),。包括:汽化器VC系列,、汽化器MV系列、汽化器VE系列,。
暢銷型號(hào):VC-1420,、MV-1000、MV-2000,、VE-10,、VE-30.
汽化器注入式方法
以下是將液體源氣化并輸送入反應(yīng)腔的主要步驟。
1.測(cè)定液體源的流量,,并通過(guò)反饋電路,,控制閥門開度。
2.液體瞬間全部氣化,。
3.氣體被釋放,且不會(huì)變回液相狀態(tài),。
氣化系統(tǒng)采用注入式的方法繼而按以上1,2,3步進(jìn)行傳輸,。
汽化器VC-1420采用內(nèi)置質(zhì)量流量計(jì)測(cè)量液體流量,,因此不再需要其他載氣。
汽化器VC與其他設(shè)備組合使用
汽化器MI-1000,、汽化器MV-2000需要配置液體流量計(jì)LF-A,、載氣流量控制器SEC,來(lái)實(shí)現(xiàn)液體源汽化,。
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)
先進(jìn)的高精度過(guò)程控制儀器用于高產(chǎn)量 MOCVD 應(yīng)用
電力電子領(lǐng)域的許多行業(yè)使用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)作為激光二極管,、LED和半導(dǎo)體制造的標(biāo)準(zhǔn)工藝。MOCVD工藝是一種成熟的可控合成方法,,它使用了多種MO源,,如三甲基銦(TMI)和二乙基鋅(DEZ),需要一種穩(wěn)健的傳遞方法,,以確保沉積過(guò)程的重復(fù)性和高收率,。MOCVD系統(tǒng)利用起泡器汽化,從而控制MO源濃度,、生長(zhǎng)時(shí)間和生長(zhǎng)速率,。部分MO源用載氣流帶出源瓶,并從起泡器流向腔室,。在這個(gè)過(guò)程中捕獲的MO源的濃度必須是已知的,,而且最重要的是必須具有重復(fù)性,以提供最大的工藝效率,。實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)需要精確,、快速和理想的過(guò)程變量的閉環(huán)控制,包括氣體流量,、溫度和壓力,。
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