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說說真空管式爐的特點功能
閱讀：530 發(fā)布時間：2020-10-28
真空管式爐在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場,，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電,，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,，其本身溫度很高,，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化,。它們吸附在襯底上,，并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜，副產(chǎn)物從襯底上解吸,，隨主氣流由真空泵抽走,，稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉(PECVD)。
真空管式爐主要功能和特點：
1、采用KF快速法蘭密封,，裝卸方便快捷,。
2、管路采用世界*Swagelok卡套連接,，不漏氣,。
3、超溫,、過壓時,，自動切斷加熱電源及流量計進(jìn)氣，使用安全可靠,。
4,、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性,。
5,、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，高真空可達(dá)0.001Pa,。
6,、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計，流量顯示儀等組成,，實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制,。
7、PECVD具有基本溫度低,、沉積速率快,、成膜質(zhì)量好、針孔較少,、不易龜裂等,。
8、PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子,，就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng),。
9、借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,，在局部形成等離子體,，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng),，在基片上沉積出所期望的薄膜,。
